分析稱iPhone或將在2021年采用屏下指紋識別
近日,天風國際分析師郭明錤發(fā)布了一份最新報告,報告中指出iPhone可能會在2021年采用屏下指紋。
本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/201908/403409.htm
2021年iPhone可能采用屏下指紋識別
據郭明錤表示“蘋果曾經申請過屏下指紋相關專利,相信蘋果對手機采用屏下指紋仍有興趣”。預期蘋果將會在2021年推出同時配備Face ID與屏下指紋的新iPhone。
他表示,根據技術發(fā)展規(guī)律推測,屏下指紋4個關鍵技術(模塊厚度、感應面積、耗電與貼合良率)有望在未來12–18個月內顯著提升。
值得一提是,郭明錤還表示,蘋果的屏下指紋識別技術將會采用高通的大面積超聲波技術。
(本文圖片來自互聯(lián)網)
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