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          臺積電:摩爾定律未死 我們的5nm工藝密度、性能最強

          作者: 時間:2019-08-21 來源:SEMI大半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng) 收藏

          未死!”這句話如果是Intel公司說的,一點都沒有懸念,畢竟的提出者是Intel聯(lián)合創(chuàng)始人,50多年來Intel也是最堅定的捍衛(wèi)者。不過今天這句話是而非Intel說的,他們也要繼續(xù)推動摩爾定律。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/201908/403940.htm

          全球營銷主管Godfrey Cheng近日在官網(wǎng)發(fā)表博客,解釋了摩爾定律的由來及內(nèi)容,這些是老生常談的話題了,而他的意思就是強調(diào)摩爾定律沒死,只不過現(xiàn)在繼續(xù)推動摩爾定律的是而非其他公司了(Intel聽到臺積電如此表態(tài)不知道是什么滋味)。

          Godfrey Cheng提到了臺積電最近宣布的N5P工藝,這是臺積電工藝的增強版,優(yōu)化了前端及后端工藝,可在同等功耗下帶來7%的性能提升,或者在同等性能下降功耗降低15%。

          Godfrey Cheng表示臺積電的N5P工藝擴大了他們在先進工藝上的領先優(yōu)勢,該工藝將提供世界上最高的晶體管密度,還有最強的性能。

          N5P工藝還不是臺積電的重點,Godfrey Cheng表示未來幾個月、幾年里還會看到臺積電公布的最新進展,他們會繼續(xù)縮小晶體管并提高密度。

          除了先進工藝之外,Godfrey Cheng還重點提到了臺積電在系統(tǒng)級封裝上的路線圖,這也是延續(xù)摩爾定律的一個重要方向,下圖就是臺積電展示的一個系統(tǒng)級封裝芯片,總面積高達2500mm2,是世界上最大的芯片,包括2個600mm2的核心及8組HBM內(nèi)存,后者核心面積也有75mm2。

          最后,Godfrey Cheng這篇文章還是給即將開始的Hotchips國際會議預熱,臺積電的首席研究員Philip Wong博士會在這次會議上發(fā)表“下一個半導體工藝節(jié)點會給我們帶來什么”的演講,屆時會公布更多信息。 



          關鍵詞: 臺積電 摩爾定律 5nm

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