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          功率MOSFET輸出電容的非線性特性

          作者:劉業(yè)瑞,四川大學(xué)計(jì)算機(jī)學(xué)院;劉松,萬(wàn)國(guó)半導(dǎo)體元件(深圳)有限公司 時(shí)間:2020-10-22 來(lái)源:電子產(chǎn)品世界 收藏
          編者按:本文主要分析了功率MOSFET的輸出電容和米勒電容的定義以及他們非線性特性的表現(xiàn)形態(tài),探討了影響這二個(gè)電容的相關(guān)因素,闡述了耗盡層電荷濃度非線性變化以及耗盡層厚度增加輸出電容和米勒電容的非線性特性的原因。


          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/202010/419519.htm

          1、前言

          的數(shù)據(jù)表中有三個(gè)寄生電容:輸入電容Ciss、輸出轉(zhuǎn)移電容Crss和Coss。其中,Crss為柵極G和漏源D電容,這個(gè)電容也稱;柵極和源極的電容為CGS,漏極D和源極的電容為CDS,Ciss等于CGS與Crss之和,Coss等于CDS與Crss之和。Ciss、Crss和Coss是非常重要的三個(gè)動(dòng)態(tài)參數(shù),Ciss和Crss影響著開關(guān)過(guò)程中電壓和電流交疊的開關(guān)損耗,以及開關(guān)過(guò)程的dV/dt和di/dt;Coss影響電容關(guān)斷過(guò)程中的dV/dt,以及開通損耗。但是,Crss和Coss還有一個(gè)非常重要的特性,就是特性,這個(gè)特性會(huì)影響的開關(guān)性能,比如開關(guān)過(guò)程中的柵極震蕩,功率MOSFET并聯(lián)工作的柵極震蕩,還會(huì)影響開關(guān)損耗以及橋式電路上下管死區(qū)時(shí)間計(jì)算的精度。[1-5]本文將分析Crss和Coss的特性。

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          圖1 AOT10N60的電容特性

          2、Coss的特性

          Coss和Crss電容非線性特性就是指:當(dāng)所加的偏置電壓VDS發(fā)生改變的時(shí)候,它們的電容值也會(huì)發(fā)生改變,表現(xiàn)出非線性的特性,如圖1所示。Coss和Crss的具有同樣的特性,因此,下面主要以Coss為例,來(lái)進(jìn)行說(shuō)明。

          當(dāng)電容二端的電壓增加時(shí),就會(huì)形成對(duì)電容的充電電流,電容二個(gè)電極上的電荷量也會(huì)增加,因此,電容二端電壓的變化是通過(guò)二個(gè)電極上的電荷的變化來(lái)實(shí)現(xiàn)。電容值的大小,和電容二個(gè)電極的面積A成正比,和二個(gè)電極的距離d成反比,和介質(zhì)介電常數(shù)e成正比:

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          功率MOSFET的Coss實(shí)際上是漏極D和源極S的PN結(jié)的電容,漏極D和源極S加上電壓VDS,PN結(jié)的耗盡層加寬,耗盡層、也就是空間電荷區(qū)內(nèi)部的電荷數(shù)量增加,形成對(duì)PN結(jié)的充電電流,因此PN結(jié)的這個(gè)特性表現(xiàn)為電容的特性,耗盡層在P區(qū)、N區(qū)里面的邊界,就相當(dāng)于電容的二個(gè)電極。

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          圖2 功率MOSFET結(jié)構(gòu)

          功率MOSFET外加電壓VDS,Coss的電荷數(shù)量的改變,是通過(guò)耗盡層厚度的改變來(lái)實(shí)現(xiàn)。外加電壓VDS增加,耗盡層厚度也相應(yīng)的增加。在一定的外加偏置電壓下,如果偏置電壓發(fā)生非常小的變化,耗盡層厚度基本可以認(rèn)為保持不變,耗盡層電荷的變化量與電壓的變化量成正比,那么,在此外加偏置電壓下,輸出電容Coss為:

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          外加電壓VDS比較小時(shí),耗盡層厚度也比較小,P區(qū)、N區(qū)初始的摻雜濃度相對(duì)比較高,自由導(dǎo)電的電子和空穴濃度比較高,因此,即使外加電壓VDS發(fā)生很小的變化DV,空間電荷區(qū)也會(huì)產(chǎn)生非常大的電荷變化DQ,由公式2可以得到,當(dāng)偏置電壓VDS比較小時(shí),輸出電容Coss電容值非常大。

          外加電壓VDS增加到一定值,耗盡層厚度也增加到一定值,P區(qū)、N區(qū)的自由導(dǎo)電的電子和空穴濃度被大量消耗,濃度非常低,相當(dāng)于低偏置電壓VDS,為了得到同樣的空間電荷區(qū)電荷變化值DQ,就需要更大的外加電壓VDS的變化值DV1。由公式2可以得到,同樣DQ ,DV1>DV,當(dāng)偏置電壓VDS大時(shí),Coss電容值就會(huì)變小。

          同時(shí),偏置電壓VDS大時(shí),耗盡層厚度增大,相當(dāng)于Coss電容的二個(gè)電極的距離增加,因此,會(huì)導(dǎo)致Coss電容值進(jìn)一步的降低。

          對(duì)于新型超結(jié)結(jié)構(gòu)的高壓功率MOSFET,由于采用橫向耗盡電場(chǎng),導(dǎo)致Coss和Crss的非特性更為嚴(yán)重,更容易產(chǎn)生各種應(yīng)用的問題。

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          圖3 功率MOSFET內(nèi)部PN結(jié)耗盡層

          3、結(jié)論

          (1)功率MOSFET的Coss和Crss會(huì)隨著外加電壓VDS的增加而降低,從而表現(xiàn)出非線性的特性,新型超結(jié)結(jié)構(gòu)的高壓功率MOSFET非線性特性更為嚴(yán)重,更容易產(chǎn)生各種應(yīng)用的問題。

          (2)Coss和Crss的大小與二個(gè)極板相對(duì)應(yīng)的面積成正比,與二個(gè)極板的距離成反正。

          (3)不同的偏置電壓下耗盡過(guò)程中,載流子濃度變化的非線性是電容具有非線性特性的主要原因。

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          圖4 不同VDS電壓的PN結(jié)耗盡層

          參考文獻(xiàn)

          [1] 劉松. 理解功率MOSFET的開關(guān)損耗,今日電子:2009.10:52-55

          [2] 劉松.超結(jié)型高壓功率MOSFET結(jié)構(gòu)工作原理,今日電子, 2013, 11(243):30-31

          [3] 劉松. 功率MOSFET應(yīng)用問題分析提高篇. 今日電子, 2015, 2(258): 30-33

          [4] 劉松. 功率MOSFET應(yīng)用問題分析基礎(chǔ)篇. 今日電子, 2014, 12(256): 43-46

          [5] 劉松. 理解MOSFET時(shí)間相關(guān)及能量相關(guān)輸出電容Coss(tr)和Coss(er) ,電子產(chǎn)品世界, 2019.4

          作者介紹:劉松,男,湖北武漢人, 碩士,現(xiàn)任職于萬(wàn)國(guó)半導(dǎo)體元件有限公司應(yīng)用中心總監(jiān),主要從事開關(guān)電源系統(tǒng)、電力電子系統(tǒng)和模擬電路的應(yīng)用研究和開發(fā)工作。獲廣東省科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)一項(xiàng),發(fā)表技術(shù)論文60多篇。

          注:本文來(lái)源于《電子產(chǎn)品世界》雜志2020年10月期



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