知情人士稱，美國美光科技公司準備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進芯片制造設備EUV（極紫外光刻機），以制造下一代存儲芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補貼。

日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實了美光在日的進一步投資。他指出，日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進存儲芯片。

今日（周四），日本首相岸田文雄會見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團，而有關芯片的詳細計劃可能在之后陸續(xù)宣布。

自2013年以來，美光已經(jīng)在日本投資超過130億美元，其中包括去年宣布的