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          晶圓代工廠商瘋搶光刻機設(shè)備!

          作者: 時間:2023-11-23 來源:全球半導(dǎo)體觀察 收藏

          盡管半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)仍處調(diào)整周期中,但部分應(yīng)用市場需求強勁,正吸引半導(dǎo)體廠商積極擴產(chǎn),而在芯片制造過程中,制造設(shè)備不可或缺。近期,為滿足市場需要,全球大廠ASML又有新動作。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/202311/453238.htm

          ASML大手筆,每年1億歐元扶持柏林廠

          據(jù)德國媒體《商報》(Handelsblatt)報道,近日,荷蘭半導(dǎo)體公司阿斯麥(ASML)將在2023年投資1億歐元(1.09億美元),未來幾年每年將投資相同金額,擴大其位于德國柏林制造工廠的生產(chǎn)和開發(fā)能力。

          ASML德國區(qū)董事總經(jīng)理George Gomba表示,勞動力也將隨之增加。Gomba表示自2022年初以來,已經(jīng)增加了600名員工。該公司目前在首都擁有1700名員工,預(yù)計幾年內(nèi)將增加到2300人。

          據(jù)悉,ASML柏林工廠主要生產(chǎn)的零部件包括晶圓臺、光罩盤以及反射鏡等核心零部件。ASML在2020年收購了這家名為Berliner Glas的工廠。

          廠瘋搶設(shè)備

          光刻機是一種制造芯片的關(guān)鍵設(shè)備,利用特定波長的光進行輻射,將掩膜版上特定的圖像精準的印刻在硅片上。目前,光刻機市場高度集中,全球掌握該技術(shù)的只有少數(shù)幾家企業(yè),其中荷蘭ASML是全球最大的光刻機企業(yè),也是全球最先進的光刻機企業(yè),此外,尼康、佳能、上海微電子裝備等公司亦在積極布局光刻機領(lǐng)域。

          而用于曝光半導(dǎo)體的極紫外光刻(EUV)技術(shù),由于造價昂貴、制程復(fù)雜、貨源稀少,而ASML是全球唯一在銷售EUV的公司,對7nm以下的先進制程而言,EUV是不可或缺的設(shè)備。歷經(jīng)20余年研發(fā),EUV技術(shù)至今成為半導(dǎo)體先進制程中最重要的生產(chǎn)工具,并使得摩爾定律得以延續(xù),據(jù)悉,該技術(shù)將會讓摩爾定律至少延續(xù)再一個十年。

          作為重要的EUV設(shè)備供應(yīng)商,ASML正在開發(fā)新一代NA-EUV設(shè)備,此名稱代表高數(shù)值孔徑,其該值越大,可實現(xiàn)的解析度越高,芯片上安裝的電晶體就越多。據(jù)悉,1臺NA-EUV售價數(shù)億歐元,預(yù)計年底前,ASML就會推出全球第1臺高NA-EUV,并交付給英特爾。

          目前,臺積電與三星正在使用EUV設(shè)備進行制造,包括臺積電7nm、5nm、3nm制程,三星于韓國華城建置的EUV Line (7nm、5nm及4nm),以及3nm GAA制程等。

          臺積電的2nm制程將持續(xù)使用EUV技術(shù)。而此前,臺積電9月宣布收購將以不超4.328億美元的價格收購英特爾旗下子公司IMS,后者專注于研發(fā)和生產(chǎn)電子束光刻機。業(yè)界稱,臺積電此舉可確保關(guān)鍵設(shè)備的技術(shù)開發(fā),并滿足2nm商用化的供應(yīng)需求。

          三星在已量產(chǎn)第二代3nm芯片之后,表示將目標(biāo)定在2nm芯片。三星計劃2025年實現(xiàn)應(yīng)用在移動領(lǐng)域2nm工藝的量產(chǎn),于2026和2027分別擴展到HPC及汽車電子。據(jù)媒體9月報道,三星正準備確保下一代EUV光刻機High-NA的產(chǎn)量,預(yù)計這款設(shè)備將于今年晚些時候推出原型,明年正式供貨。

          而英特爾自業(yè)界公布將重拾業(yè)務(wù)之后,于10月宣布已開始采用極紫外光刻(EUV)技術(shù)大規(guī)模量產(chǎn)Intel 4制程節(jié)點。據(jù)了解,目前,Intel 7和Intel 4已實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn);Intel 3正在按計劃推進,目標(biāo)是2023年底。



          關(guān)鍵詞: 晶圓代工 光刻機

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