色婷婷AⅤ一区二区三区|亚洲精品第一国产综合亚AV|久久精品官方网视频|日本28视频香蕉

          新聞中心

          EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動態(tài) > 日本Rapidus計劃2024年底引入EUV光刻機(jī)

          日本Rapidus計劃2024年底引入EUV光刻機(jī)

          作者: 時間:2023-12-07 來源:SEMI 收藏

          據(jù)日媒報道,芯片公司表示,正在北海道建設(shè)芯片工廠,目標(biāo)是2027年量產(chǎn)制程芯片。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/202312/453628.htm

          該公司宣布,決定在2024年年底引入,并將派遣員工赴荷蘭阿斯麥學(xué)習(xí)EUV極紫外光刻技術(shù)。目標(biāo)是今年派遣100名員工至IBM、阿斯麥學(xué)習(xí)先進(jìn)芯片技術(shù)。



          評論


          相關(guān)推薦

          技術(shù)專區(qū)

          關(guān)閉