根據(jù)韓國媒體Etnews的報導，晶圓代工大廠三星正在考慮將其設在美國德州泰勒市的晶圓廠制程技術，從原計劃的4納米改為2納米，以加強與臺積電美國廠和英特爾的競爭。消息人士稱，三星電子最快將于第三季做出最終決定。

報導指出，三星的美國德州泰勒市晶圓廠投資于2021年，2022年開始興建，計劃于2024年底開始分階段運營。以三星電子DS部門前負責人Lee Bong-hyun之前的說法表示，到2024年底，我們將開始從這里出貨4納米節(jié)點制程的產(chǎn)品。

不過，相較于三星泰勒市晶圓廠，英特爾計劃2024年在亞利桑那州和俄亥俄州工廠量產(chǎn)Intel 20A和18A節(jié)點制程。

此外，臺積電也正在美國建設三座晶圓廠，計劃2025年上半年投產(chǎn)4納米節(jié)點制程，2028年投產(chǎn)2納米及3納米節(jié)點制程，2030年投產(chǎn)2納米及其以下的先進節(jié)點制程。因此，相較來說，三星的進度稍有所落后競爭對手。

而根據(jù)在4月份舉行的第一季業(yè)績發(fā)表會上，三星電子表示，我們正準備根據(jù)客戶訂單分階段啟動美國泰勒市晶圓廠的運營工作，預計將于2026年開始進一步的首次量產(chǎn)。而受惠于泰勒市晶圓廠，三星電子能夠從美國政府獲得64億美元的補貼，這使得三星預計到2030年總投資預計將超過400億美元。因此，對于泰勒市晶圓廠的制程轉(zhuǎn)變，未來是否會影響市場占有率，市場還需拭目以待。