消息稱蘋果正測(cè)試 ALD 工藝，為下一代 iPhone Pro 鏡頭添加抗反射光學(xué)涂層
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IT之家 4 月 16 日消息，消息源 yeux1122 近日在其 Naver 博客上曝料，表示從蘋果供應(yīng)鏈處獲悉，蘋果正測(cè)試新的抗反射光學(xué)涂層技術(shù)，可以減少鏡頭炫光和鬼影等偽影，從而提高照片質(zhì)量。
本文引用地址：http://cafeforensic.com/article/202404/457663.htm
供應(yīng)鏈消息稱蘋果正在考慮在 iPhone 相機(jī)鏡頭制造工藝中，引入新的原子層沉積（ALD）設(shè)備。
原子層沉積（Atomic layer deposition，ALD）是一種基于連續(xù)使用氣相化學(xué)過程的薄膜沉積技術(shù)，將物質(zhì)以單原子膜形式逐層鍍?cè)谝r底表面的方法。ALD 是一種真正的納米技術(shù)，以精確控制方式實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的超薄薄膜沉積。
而具體到相機(jī)鏡頭方面，ALD 工藝主要用來噴涂抗反射涂層，這有助于減少攝影偽影。例如當(dāng)太陽等強(qiáng)光源直接照射鏡頭時(shí)，最終拍攝的圖像中可能出現(xiàn)條紋和光暈，而 ALD 可以減少這些圖像失真現(xiàn)象。IT之家附上截圖如下：
此外，ALD 應(yīng)用材料可以防止環(huán)境對(duì)相機(jī)鏡頭系統(tǒng)造成損害，同時(shí)又不會(huì)影響傳感器有效捕捉光線的能力。
博文表示蘋果計(jì)劃將該工藝部署到 iPhone 的 Pro 機(jī)型中，可能會(huì)應(yīng)用到 iPhone 16 Pro 系列或者明年的 iPhone 17 Pro 系列上。
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