據(jù)媒體報(bào)道，當(dāng)?shù)貢r(shí)間周二，臺積電高級副總裁張曉強(qiáng)（Kevin Zhang）在阿姆斯特丹舉行的一個(gè)技術(shù)研討會(huì)表示，ASML的最新高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)（High-NA EUV）價(jià)格過高，并直言：“我喜歡這項(xiàng)技術(shù)，但我不喜歡它的標(biāo)價(jià)。”

據(jù)了解，這款新光刻機(jī)的線寬僅為8nm，精細(xì)度是前一代的1.7倍。但每臺機(jī)器的成本高達(dá)3.5億歐元（約合3.78億美元），重量相當(dāng)于兩架空客A320，而ASML的常規(guī)EUV設(shè)備的成本為2億歐元。

報(bào)道稱，新款光刻機(jī)預(yù)計(jì)將幫助芯片設(shè)計(jì)縮小三分之二，但芯片制造商必須權(quán)衡技術(shù)優(yōu)勢與更高的成本，以及ASML過去的技術(shù)是否更可靠或足夠好。

臺積電的下一代芯片制造技術(shù)A16計(jì)劃于2026年下半年推出。張曉強(qiáng)透露，A16并不一定需要使用ASML的高數(shù)值孔徑 EUV，可以繼續(xù)依賴臺積電現(xiàn)有的極紫外設(shè)備，因?yàn)楝F(xiàn)有的EUV技術(shù)已經(jīng)足夠應(yīng)對這一需求。

目前，臺積電是ASML常規(guī)EUV光刻機(jī)的最大客戶。張曉強(qiáng)表示，臺積電的A16工廠可能會(huì)設(shè)計(jì)成適應(yīng)這項(xiàng)新技術(shù)。未來是否使用ASML的新技術(shù)，將取決于其經(jīng)濟(jì)效益以及能否實(shí)現(xiàn)技術(shù)平衡。

而據(jù)韓媒日前報(bào)道，英特爾公司已經(jīng)訂購了最新的高數(shù)值孔徑EUV機(jī)器，并于12月底將第一臺機(jī)器運(yùn)送到俄勒岡州的一家工廠。截至明年上半年，英特爾已獲得ASML生產(chǎn)的大部分高數(shù)值孔徑EUV)設(shè)備。