日本首臺(tái)ASML EUV光刻機(jī)將運(yùn)抵，用于Rapidus晶圓廠試產(chǎn)
加入技術(shù)交流群
據(jù)日媒報(bào)道，日本半導(dǎo)體代工企業(yè)Rapidus購(gòu)入的第一臺(tái)ASML EUV光刻機(jī)將于2024年12月中旬抵達(dá)北海道新千歲機(jī)場(chǎng)，這也將成為日本全國(guó)首臺(tái)EUV光刻設(shè)備。
本文引用地址：http://cafeforensic.com/article/202411/464682.htm據(jù)Rapidus高管此前透露，該光刻機(jī)是較早期的0.33 NA型號(hào)，而非目前全球總量不足10臺(tái)的0.55 NA（High NA）款。
按Rapidus此前的規(guī)劃，該公司計(jì)劃于2025年4月啟動(dòng)先進(jìn)制程原型線，該產(chǎn)線將擁有包括EUV光刻機(jī)在內(nèi)的共計(jì)200余臺(tái)設(shè)備。根據(jù)千歲市當(dāng)?shù)卣恼f(shuō)法，Rapidus 的 IIM-1 晶圓廠截至上月底已完成63%的施工進(jìn)度。
評(píng)論