X-FAB推出基于其110nm車規(guī)BCD-on-SOI技術(shù)的嵌入式數(shù)據(jù)存儲(chǔ)解決方案
全球公認(rèn)的卓越的模擬/混合信號(hào)晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)近日宣布一項(xiàng)非易失性存儲(chǔ)領(lǐng)域的重大創(chuàng)新。該創(chuàng)新利用X-FAB同類最佳的SONOS技術(shù):基于其高壓BCD-on-SOI XT011這一110nm工藝節(jié)點(diǎn)平臺(tái),X-FAB可為客戶提供符合AECQ100 Grade-0標(biāo)準(zhǔn)的32kByte容量嵌入式閃存IP,并配備額外的4Kbit EEPROM。此外,從2025年起,X-FAB還計(jì)劃推出更大容量的64KByte、128KByte閃存以及更大存儲(chǔ)空間的EEPROM。
本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/202412/465239.htm通過采用獨(dú)特的方法,將閃存和EEPROM元件都置于單個(gè)宏單元內(nèi),并共享必要的控制電路。這意味著使用更簡單的布局從而減少組合元件的總體占用面積,并為支持Grade-0,175°C的32KBytes存儲(chǔ)解決方案設(shè)定了新的行業(yè)基準(zhǔn)。
該嵌入式閃存為客戶帶來市場上最先進(jìn)的數(shù)據(jù)訪問能力,能夠在整個(gè)-40°C至175°C溫度范圍內(nèi)讀取數(shù)據(jù),而EEPROM也能在高達(dá)175°C的溫度下寫入數(shù)據(jù)。EEPROM適用于需要頻繁寫入數(shù)據(jù)的應(yīng)用,可提高閃存的耐用性與靈活性;它還可以有效地充當(dāng)緩存,在工作條件不適合寫入閃存時(shí)將數(shù)據(jù)編程至EEPROM,然后當(dāng)溫度降至125°C以下時(shí)再寫入閃存。得益于出色的穩(wěn)健性、持續(xù)的數(shù)據(jù)存儲(chǔ)完整性和顯著的空間節(jié)省,該IP旨在滿足汽車、醫(yī)療和工業(yè)應(yīng)用的需求。
這款新型NVM組合IP采用64位總線,閃存元件采用8位ECC,EEPROM元件采用14位ECC,這使得集成該IP所部署的器件實(shí)現(xiàn)零PPM誤差性能。用于輕松訪問存儲(chǔ)器和DFT的專用電路可大幅縮短測試時(shí)間,并將相關(guān)成本降至最低。如有需要,X-FAB還可提供BIST模塊和測試服務(wù)。
X-FAB法國無塵室
“通過這款采用我們專有SONOS技術(shù)的新型NVM IP,X-FAB實(shí)現(xiàn)了最高水準(zhǔn)的可靠性。這一IP將為我們客戶的嵌入式系統(tǒng)提供一流的數(shù)據(jù)保持能力和溫度穩(wěn)定性?!盭-FAB NVM開發(fā)總監(jiān)Thomas Ramsch介紹說,“通過將閃存和EEPROM兩種不同的NVM元件集成到單個(gè)宏單元上,我們現(xiàn)在可以構(gòu)建一種能夠應(yīng)對(duì)最嚴(yán)苛的工作情況的嵌入式數(shù)據(jù)存儲(chǔ)解決方案。”
“憑借更小的占用空間和更快的訪問速度,我們的NVM組合IP將在高邏輯密度應(yīng)用的開發(fā)中發(fā)揮關(guān)鍵作用?!盭-FAB NVM解決方案技術(shù)營銷經(jīng)理Nando Basile補(bǔ)充道,“這將使下一代智能傳感器和執(zhí)行器CPU系統(tǒng)設(shè)計(jì)無論是在ARM或RISC-V等成熟CPU架構(gòu)上,還是在客戶的專有設(shè)計(jì)中具備更廣泛的功能范圍?!?/p>
縮略語:
BCD Bipolar-CMOS-DMOS :雙極型晶體管-互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體-雙擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體
NVM Non-Volatile-Memory:非易失性存儲(chǔ)
BIST Build-In Self-Test:內(nèi)建自測試
DFT Design for Testability:可測性設(shè)計(jì)
ECC Error Checking and Correcting:錯(cuò)誤檢查和糾正
EEPROM 帶電可擦可編程只讀存儲(chǔ)器
PPM 百萬分率
SOI 絕緣體上硅
SONOS Silicon Oxide Nitride Oxide Silicon硅-氧化物-氮化物-氧化物-硅
評(píng)論