歐洲半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML透露，晶圓代工大廠臺(tái)積電(TSMC)計(jì)劃在2015年采購兩套超紫外光(EUV)掃描機(jī)，或?qū)⑻降字?a class="contentlabel" href="http://cafeforensic.com/news/listbylabel/label/7納米">7納米的工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)。

　　根據(jù)ASML資深副總裁FritsvanHout的描述，臺(tái)積電采購的EUV掃描機(jī)是針對(duì)10納米工藝應(yīng)用。他預(yù)期，臺(tái)積電可能最快在2018年以采購ASML的EUV掃描機(jī)展開7納米工藝芯片量產(chǎn)。

　　在11月24日舉行的倫敦法說會(huì)上，ASML宣布接獲臺(tái)積電2臺(tái)NXE：3350BEUV系統(tǒng)訂單，預(yù)計(jì)于2015年出貨，用于量產(chǎn)。ASML表示，業(yè)界可能會(huì)開始傾向于支持EUV技術(shù)。

　　臺(tái)積電在2012年8月便曾表示，同意投資ASML約85.4億元，以確保取得最新的量產(chǎn)技術(shù)知識(shí)。此次采用EUV設(shè)備，臺(tái)積電可能成為下一代半導(dǎo)體微影主流技術(shù)的第一波推動(dòng)者。

　　臺(tái)積電共同執(zhí)行長劉德音說，他希望該套設(shè)備能在2015年年底準(zhǔn)備好試產(chǎn)，并在2016年正式生產(chǎn)。

　　ASML估計(jì)邏輯電路會(huì)最早使用EUV工藝，將在2016年的10納米節(jié)點(diǎn)上實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，NAND閃存會(huì)在2019開始啟用EUV工藝，DRAM及MPU產(chǎn)品則會(huì)在2018年進(jìn)入EUV時(shí)代。如果一切順利，ASML預(yù)計(jì)2020年前會(huì)出貨50臺(tái)~60臺(tái)EUV設(shè)備，營收達(dá)到120億美元。