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          Spansion硅谷研發(fā)中心轉向300mm閃存晶圓開發(fā)

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          作者: 時間:2007-03-08 來源: 收藏
            宣布其亞微米開發(fā)中心(SDC)已經成功地完成了從200mm向300mm的轉變。該中心是的研發(fā)總部,同時也是為所有閃存產品線開發(fā)先進的核心部門。由此,Spansion成為唯一正在開發(fā)的硅谷公司,并且成為加州唯一擁有研發(fā)設備的公司。在Spansion位于日本的全新SP1 300mm制造廠竣工后,Spansion將在該制造廠生產300mm晶圓。

            300mm晶圓的面積大約是200mm的2倍,從而在每次切割時可獲得更多的晶片數量。Spansion計劃在2007年晚些時候在其位于日本會津若松(Aizu-Wakamatsu)的SP1 300mm晶圓制造廠生產65nm MirrorBit®閃存產品,并在2008年中期開始量產45nm產品。對于最先進的采用45nm或更低的半導體設備,300mm晶圓是必須的。65nm技術可以在200mm或300mm晶圓上實現(xiàn)。

            亞微米開發(fā)中心是Spansion的研究和開發(fā)總部,位于加利福尼亞州的桑尼維爾。該中心有約500名訓練有素的工程師、技師以及其他工作  
          人員,主要任務是為Spansion所有的閃存產品進行最先進的整合和開發(fā),從而確立Spansion的技術走向并推動其發(fā)展。SDC從1990年開始從事閃存制程研究,迄今為止公司已在該中心投資20億美元。



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