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回顧2021年中國(guó)ICT市場(chǎng)，“元宇宙、低代碼、國(guó)資云、產(chǎn)業(yè)互聯(lián)網(wǎng)、雙碳”無(wú)疑是令人首先想到的關(guān)鍵詞。那么，資深I(lǐng)CT產(chǎn)業(yè)觀察者如何用一詞表明自己的身份？答案是：國(guó)產(chǎn)EDA。相比上述關(guān)鍵詞，EDA（集成電路設(shè)計(jì)工具）即便......
2002年，已在芯片業(yè)浸潤(rùn)多時(shí)的謝仲輝回到上海。他早年求學(xué)于臺(tái)大，參與了新加坡政府一力扶持的特許半導(dǎo)體工廠的建立與運(yùn)營(yíng)。隨著身邊的同事逐漸回流大陸，他意識(shí)到國(guó)內(nèi)的芯片工業(yè)正在飛速發(fā)展，急需富有經(jīng)驗(yàn)的人才為國(guó)效力。于是，他......
研究方向一：三維納米級(jí)電路可制造性設(shè)計(jì)方法及EDA技術(shù)進(jìn)入納米工藝節(jié)點(diǎn)，電路的物理結(jié)構(gòu)對(duì)工藝容差和設(shè)計(jì)提出了新的挑戰(zhàn)，可制造性和成品率成為集成電路高端芯片能否實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)并盈利的最關(guān)鍵因素之一，可制造性設(shè)計(jì)EDA技術(shù)搭建......
自主開(kāi)發(fā)完成通用電磁模擬仿真分析軟件EMbridge，滿(mǎn)足電磁、機(jī)電器件需求。結(jié)合最新研發(fā)的算法成果顯著提高了場(chǎng)分析的效率。創(chuàng)新提出的快速多階敏感度算法、隨機(jī)譜方法能夠應(yīng)對(duì)IC工業(yè)中工業(yè)偏差引入的隨機(jī)影響。......
EDA中心在極低功耗SoC設(shè)計(jì)方法學(xué)及關(guān)鍵EDA技術(shù)領(lǐng)域開(kāi)展了年的研發(fā)工作，研究設(shè)計(jì)了亞閾值溫度傳感器、32位亞閾值SAPTL超前進(jìn)位加法器、16位亞閾值B-SAPTL加法器、16x16亞閾值A(chǔ)SYN-B-SAPTL異步......
依托國(guó)家重大科技專(zhuān)項(xiàng)，EDA中心牽頭編制了國(guó)內(nèi)首個(gè)強(qiáng)制JYIP核標(biāo)準(zhǔn)《GJB7715-2012JY集成電路IP核通用要求》，建立IP核應(yīng)用推廣平臺(tái)，開(kāi)發(fā)IP核主觀評(píng)測(cè)電子表格（IPQE），在此基礎(chǔ)上，完成多款移動(dòng)通信與數(shù)......
EDA中心在PDK設(shè)計(jì)領(lǐng)域開(kāi)展了十多年的研發(fā)工作，常年服務(wù)于國(guó)內(nèi)外主流Foundry、各大EDA公司和IC設(shè)計(jì)公司。能夠基于多種語(yǔ)言(Skill/Tcl/Python)開(kāi)發(fā)適用于各種軟件平臺(tái)的PDK/oaPDK/iPDK......
基于65/45/40/28納米銅互連和28納米高k金屬柵CMP工藝及DFM設(shè)計(jì)規(guī)則，課題組開(kāi)發(fā)了一套兼顧平坦化和寄生效應(yīng)、完整兼容業(yè)界主流EDA工具的DFM仿真平臺(tái)，該平臺(tái)具有超大規(guī)模版圖快速處理，ECP/CVD/PVD......
研究65/45/40/28納米銅互連ECP/CMP及32/28納米HKMG CMP工藝，提出了耦合設(shè)計(jì)版圖與CMP機(jī)理的新型高效CMP建模技術(shù)，開(kāi)發(fā)了多節(jié)點(diǎn)銅互連平坦性疊層仿真工具和28納米高k金屬柵DFM解決方案，可動(dòng)......
針對(duì)國(guó)產(chǎn)EDA工具應(yīng)用推廣的平臺(tái)化共性技術(shù)問(wèn)題，研究基于國(guó)產(chǎn)EDA工具先進(jìn)工藝設(shè)計(jì)參考流程，以及關(guān)鍵EDA工具的評(píng)測(cè)技術(shù)，包括EDA工具的功能對(duì)比、性能測(cè)試、可兼容性、穩(wěn)定性、易用性等的測(cè)試驗(yàn)證，形成規(guī)范的EDA工具評(píng)測(cè)......
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