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          安森美加速碳化硅創(chuàng)新,助力推進(jìn)電氣化轉(zhuǎn)型

          • 新聞要點●? ?最新一代EliteSiC M3e MOSFET能將電氣化應(yīng)用的關(guān)斷損耗降低多達(dá) 50%●? ?該平臺采用經(jīng)過實際驗證的平面架構(gòu),以獨特方式降低了導(dǎo)通損耗和開關(guān)損耗●? ?與安森美(onsemi) 智能電源產(chǎn)品組合搭配使用時,EliteSiC M3e 可以提供更優(yōu)化的系統(tǒng)方案并縮短產(chǎn)品上市時間●? ?安森美宣布計劃在 2030 年前加速推出多款新一代碳化硅產(chǎn)品 ? ? ?面對不斷升級
          • 關(guān)鍵字: 安森美  碳化硅  電氣化轉(zhuǎn)型  

          環(huán)球晶圓40億美元建廠,獲美國至多4億美元補(bǔ)助

          • 當(dāng)?shù)貢r間7月17日,美國商務(wù)部宣布與全球第三大半導(dǎo)體晶圓供應(yīng)商環(huán)球晶圓(GlobalWafers)簽署了不具約束力的初步備忘錄(PMT)。環(huán)球晶圓承諾在美國投資約40億美元(約合人民幣290億元)建設(shè)兩座12英寸晶圓制造工廠。美國政府將向環(huán)球晶圓提供至多4億美元(約合人民幣29億元)的《芯片法案》直接補(bǔ)助,以加強(qiáng)半導(dǎo)體元件供應(yīng)鏈。據(jù)悉,環(huán)球晶圓將在德克薩斯州謝爾曼建立第一家用于先進(jìn)芯片的300mm硅晶圓制造廠,在密蘇里州圣彼得斯建立生產(chǎn)300mm絕緣體上硅(“SOI”)晶圓的新工廠。環(huán)球晶圓董事長徐秀蘭表
          • 關(guān)鍵字: 環(huán)球晶圓  晶圓廠  碳化硅  

          英飛凌OptiMOS? 7 40V 車規(guī)MOSFET ,助力汽車控制器應(yīng)用

          • OptiMOS? 7 40V 車規(guī)MOSFET概況采用OptiMOS? 7 技術(shù)的40V車規(guī)MOSFET產(chǎn)品系列,進(jìn)一步提升比導(dǎo)通電阻,減小RDSON*A,即在同樣的晶圓面積下實現(xiàn)更低的RDSON,或者說在更小的晶圓面積下實現(xiàn)相同的RDSON。如下圖所示,英飛凌40V MOSFET不同代際產(chǎn)品在比導(dǎo)通電阻的演進(jìn)。英飛凌40V MOSFET比導(dǎo)通電阻代際演進(jìn)英飛凌OptiMOS? 7 技術(shù)是英飛凌開發(fā)的第五代溝槽技術(shù),是當(dāng)今領(lǐng)先的雙多晶硅溝槽技術(shù)。無引腳封裝結(jié)合銅夾技術(shù)的使用,大幅提高了產(chǎn)品的電流能
          • 關(guān)鍵字: OptiMOS  MOSFET  英飛凌  

          基本半導(dǎo)體銅燒結(jié)技術(shù)在碳化硅功率模塊中的應(yīng)用

          • 引言:隨著新能源汽車產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展,功率密度的不斷提升與服役條件的日趨苛刻給車載功率模塊封裝技術(shù)帶來了更嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。碳化硅憑借其優(yōu)異的材料特性,成為了下一代車載功率芯片的理想選擇。同時,高溫、高壓、高頻、大電流的工作環(huán)境對碳化硅模塊內(nèi)部封裝材料的互連可靠性提出了更高要求,開發(fā)與碳化硅功率芯片匹配的新型互連材料和工藝亟需同步推進(jìn)。傳統(tǒng)互連材料的局限傳統(tǒng)的高溫錫基焊料和銀燒結(jié)技術(shù)已在功率模塊行業(yè)中活躍多年,但它們各自存在一定短板。例如,錫基焊料耐高溫性能不足,熱導(dǎo)率、電導(dǎo)率偏低,在高溫下存在蠕變失效的風(fēng)險,在
          • 關(guān)鍵字: 基本半導(dǎo)體  銅燒結(jié)  碳化硅  功率模塊  

          碳化硅競爭升級,中國企業(yè)施壓國際大廠

          • 作為第三代半導(dǎo)體材料的典型代表,碳化硅(SiC)與硅(Si)相比,擁有更加優(yōu)異的物理和化學(xué)特性,使得 SiC 器件能降低能耗 20% 以上,減少體積和重量 30%~50%,可滿足中低壓、高壓、超高壓功率器件制備要求。SiC 器件可廣泛應(yīng)用于電動汽車、軌道交通、智能電網(wǎng)、通信雷達(dá)和航空航天等領(lǐng)域。SiC 主要用于功率器件制造,與傳統(tǒng)硅功率器件制造工藝不同,SiC 器件不能直接在 SiC 單晶材料上制造,必須在導(dǎo)通型單晶襯底上額外生長高質(zhì)量的外延材料,在外延層上制造器件。在 SiC 產(chǎn)業(yè)鏈上,關(guān)鍵部分主要集中
          • 關(guān)鍵字: 碳化硅  

          碳化硅模塊在太陽能逆變器中的應(yīng)用

          • 碳化硅場效應(yīng)晶體管(SiC FET)接近于理想的開關(guān),具有低損耗、寬帶隙技術(shù)和易于集成設(shè)計等優(yōu)勢。Qorvo的SiC FET技術(shù)如今以高效模塊化產(chǎn)品的形式呈現(xiàn);本文探討了這種產(chǎn)品形態(tài)如何使SiC FET成為太陽能逆變器應(yīng)用的理想之選。
          • 關(guān)鍵字: 202407  太陽能  PV  SiC FET  寬帶隙  碳化硅  光伏  

          用先進(jìn)的SPICE模型模擬MOSFET電流-電壓特性

          • 在本文中,我們使用90nm CMOS的SPICE模型來繪制NMOS晶體管的關(guān)鍵電學(xué)關(guān)系。在前一篇文章中,我解釋了如何獲得集成電路MOSFET的高級SPICE模型,并將其納入LTspice仿真中。然后,我們使用這個模型來研究NMOS晶體管的閾值電壓。在本文中,我們將使用相同的模型來生成直觀地傳達(dá)晶體管電氣行為的圖。繪制漏極電流與漏極電壓我們將從生成漏極電流(ID)與漏極-源極電壓(VDS)的基本圖開始。為此,我們將柵極電壓設(shè)置為遠(yuǎn)高于閾值電壓的固定值,然后執(zhí)行直流掃描模擬,其中VDD的值逐漸增加。圖1顯示了
          • 關(guān)鍵字: LTspice  MOSFET  NMOS  

          成本可降低10%,日本推碳化硅襯底新技術(shù)

          • 據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報道,日本中央硝子(Central Glass)開發(fā)出了用于功率半導(dǎo)體材料“碳化硅(SiC)”襯底的新制造技術(shù)。據(jù)介紹,中央硝子開發(fā)出了利用含有硅和碳的溶液(液相法)來制造SiC襯底的技術(shù)。與使用高溫下升華的SiC使單晶生長(升華法)的傳統(tǒng)技術(shù)相比,液相法在增大襯底尺寸以及提高品質(zhì)方面更具優(yōu)勢。該技術(shù)可使襯底的制造成本降低10%以上,良率也會大幅度提升。由于利用液相法制備SiC襯底較為復(fù)雜,此前該技術(shù)一直未應(yīng)用在實際生產(chǎn)中。中央硝子運用基于計算機(jī)的計算化學(xué),通過推算溶液的動態(tài)等,成功量產(chǎn)出了6
          • 關(guān)鍵字: 碳化硅  襯底  

          ST:2025年碳化硅將全面升級為8英寸

          • 6月28日,據(jù)韓媒報道,意法半導(dǎo)體(ST)將從明年第三季度開始將其碳化硅(SiC)功率半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝從6英寸升級為8英寸。該計劃旨在提高產(chǎn)量和生產(chǎn)率,以具有競爭力的價格向市場供應(yīng)SiC功率半導(dǎo)體。意法半導(dǎo)體功率分立與模擬產(chǎn)品部副總裁Francesco Muggeri近日接受記者采訪時表示:“目前,生產(chǎn)SiC功率半導(dǎo)體的主流尺寸為6英寸,但我們計劃從明年第三季度開始逐步轉(zhuǎn)向8英寸?!彪S著晶圓尺寸的增加,每片可以生產(chǎn)更多的芯片,每顆芯片的生產(chǎn)成本降低。SiC晶圓正在從6英寸逐步轉(zhuǎn)變到8英寸。意法半導(dǎo)體計劃明年
          • 關(guān)鍵字: 碳化硅  意法半導(dǎo)體  

          英飛凌推出全新600 V CoolMOS? 8 SJ MOSFET系列,適用于高成本效益的先進(jìn)電源應(yīng)用

          • 英飛凌科技股份公司近日推出600 V CoolMOS??8?高壓超結(jié)(SJ)MOSFET產(chǎn)品系列。該系列器件結(jié)合了600 V CoolMOS??7 MOSFET系列的先進(jìn)特性,是P7、PFD7、C7、CFD7、G7?和?S7產(chǎn)品系列的后續(xù)產(chǎn)品。全新超結(jié)MOSFET實現(xiàn)了具有高成本效益的硅基解決方案,豐富了英飛凌的寬帶隙產(chǎn)品陣容。該系列產(chǎn)品配備集成式快速體二極管,適用于服務(wù)器和工業(yè)開關(guān)模式電源裝置(SMPS)、電動汽車充電器、微型太陽能等廣泛應(yīng)用。這些元件采
          • 關(guān)鍵字: 英飛凌  oolMOS 8  SJ  MOSFET  電源應(yīng)用  

          瞻芯電子:第三代SiC MOSFET通過車規(guī)認(rèn)證

          • 6月23日,瞻芯電子宣布,公司基于第三代工藝平臺開發(fā)的1200V 13.5mΩ SiC MOSFET產(chǎn)品已經(jīng)通過車規(guī)級可靠性(AEC-Q101)測試認(rèn)證。同時,瞻芯電子第三代1200V SiC MOSFET工藝平臺正式量產(chǎn),后續(xù)將依托浙江義烏的車規(guī)級SiC晶圓廠推出更多第三代SiC MOSFET產(chǎn)品。瞻芯電子成立于2017年,是一家聚焦于碳化硅(SiC)半導(dǎo)體領(lǐng)域的高科技芯片公司,致力于開發(fā)碳化硅(SiC)功率器件、驅(qū)動和控制芯片、碳化硅(SiC)功率模塊產(chǎn)品。瞻芯電子表示,第三代1200V 13
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          英飛凌推出CoolSiC MOSFET 400V,重新定義AI服務(wù)器電源的功率密度和效率

          • 隨著人工智能(AI)處理器對功率的要求日益提高,服務(wù)器電源(PSU)必須在不超出服務(wù)器機(jī)架規(guī)定尺寸的情況下提供更高的功率,這主要是因為高級GPU的能源需求激增。到本十年末,每顆高級GPU芯片的能耗可能達(dá)到2千瓦或以上。這些需求以及更高要求的應(yīng)用和相關(guān)特定客戶需求的出現(xiàn),促使英飛凌科技股份公司(FSE代碼:IFX / OTCQX代碼:IFNNY)開發(fā)電壓650 V以下的SiC MOSFET產(chǎn)品?,F(xiàn)在,英飛凌基于今年早些時候發(fā)布的第二代(G2)CoolSiCTM技術(shù),推出全新CoolSiC??MOS
          • 關(guān)鍵字: 英飛凌  CoolSiC MOSFET  AI服務(wù)器電源  

          英飛凌推出集成高精度溫度傳感器的新型600V CoolMOS S7TA MOSFET

          • 全球功率系統(tǒng)和物聯(lián)網(wǎng)領(lǐng)域的半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)者英飛凌科技股份公司近日推出適用于汽車功率管理應(yīng)用的600 V CoolMOS? S7TA超級結(jié)MOSFET。S7TA專為滿足汽車電子部件的特殊要求而設(shè)計,其集成溫度傳感器在工業(yè)應(yīng)用同類產(chǎn)品(CoolMOS? S7T)取得的進(jìn)步基礎(chǔ)上,顯著提高了結(jié)溫傳感的精度,因此具有諸如更高的耐用性、安全性和效率等對于汽車領(lǐng)域至關(guān)重要的優(yōu)勢。與同系列中的工業(yè)級產(chǎn)品一樣,車規(guī)級CoolMOS? S7TA?尤其適合固態(tài)繼電器(SSR)應(yīng)用。它具有出色的RDS(on)?
          • 關(guān)鍵字: 英飛凌  溫度傳感器  CoolMOS  MOSFET  

          安森美選址捷克共和國打造端到端碳化硅生產(chǎn),供應(yīng)先進(jìn)功率半導(dǎo)體

          • ●? ?安森美 (onsemi) 將實施高達(dá) 20 億美元的多年投資計劃,鞏固其面向歐洲和全球客戶的先進(jìn)功率半導(dǎo)體供應(yīng)鏈●? ?垂直整合的碳化硅工廠將為當(dāng)?shù)貛硐冗M(jìn)的封裝能力,使安森美能夠更好地滿足市場對清潔、高能效半導(dǎo)體方案日益增長的需求 ? ? ?●? ?安森美與捷克共和國政府合作制定激勵方案,以支持投資計劃落實●? ?該投資將成為捷克共和國歷史上最大的私營企業(yè)投資項目之一,屬于對中歐先進(jìn)半導(dǎo)
          • 關(guān)鍵字: 安森美  碳化硅  功率半導(dǎo)體  

          一文了解SiC MOS的應(yīng)用

          • 作為第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的重要基礎(chǔ)材料,碳化硅MOSFET具有更高的開關(guān)頻率和使用溫度,能夠減小電感、電容、濾波器和變壓器等組件的尺寸,提高系統(tǒng)電力轉(zhuǎn)換效率,并且降低對熱循環(huán)的散熱要求。在電力電子系統(tǒng)中,應(yīng)用碳化硅MOSFET器件替代傳統(tǒng)硅IGBT器件,可以實現(xiàn)更低的開關(guān)和導(dǎo)通損耗,同時具有更高的阻斷電壓和雪崩能力,顯著提升系統(tǒng)效率及功率密度,從而降低系統(tǒng)綜合成本。圖 SiC/Si器件效率對比一、行業(yè)典型應(yīng)用碳化硅MOSFET的主要應(yīng)用領(lǐng)域包括:充電樁電源模塊、光伏逆變器、光儲一體機(jī)、新能源汽車空調(diào)、新能
          • 關(guān)鍵字: SiC  MOS  碳化硅  MOSFET  
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          碳化硅 mosfet介紹

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