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          EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 2nm soc

          臺(tái)積電和蘋(píng)果合作致力2nm工藝開(kāi)發(fā),傳聞3nm芯片訂單勢(shì)頭強(qiáng)勁

          • 近期臺(tái)積電(TSMC)和蘋(píng)果更緊密和高效的合作,使得研發(fā)上取得了多項(xiàng)突破?! ∧壳笆謾C(jī)開(kāi)始大量使用基于5nm工藝制造的芯片,即將推出的A15 Bionic預(yù)計(jì)將使用更先進(jìn)的N5P節(jié)點(diǎn)工藝制造,預(yù)計(jì)蘋(píng)果將在2021年占據(jù)臺(tái)積電80%的5nm產(chǎn)能。不過(guò)臺(tái)積電很快將向3nm工藝推進(jìn),并且進(jìn)一步到2nm工藝,這都只是時(shí)間問(wèn)題?!   ?jù)Wccftech報(bào)道,為了更好地達(dá)成這些目標(biāo),臺(tái)積電和蘋(píng)果已聯(lián)手推動(dòng)芯片的開(kāi)發(fā)工作,將硅片發(fā)展推向極限。臺(tái)積電和蘋(píng)果都為了同一個(gè)目標(biāo)而努力,不過(guò)受益者可能不只是蘋(píng)果,還有英特爾。臺(tái)
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  蘋(píng)果  2nm  3nm  

          加快早期設(shè)計(jì)探索和驗(yàn)證,縮短上市時(shí)間

          • 芯片級(jí)驗(yàn)證的挑戰(zhàn)鑒于先進(jìn)工藝設(shè)計(jì)的規(guī)模和復(fù)雜性,而且各方為 搶先將產(chǎn)品推向市場(chǎng)而不斷競(jìng)爭(zhēng),片上系統(tǒng) (SoC) 設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)沒(méi)有時(shí)間等到所有芯片模塊都全 部完成后才開(kāi)始組裝芯片。因此,SoC 設(shè)計(jì)人員 通常會(huì)在模塊開(kāi)發(fā)的同時(shí)開(kāi)始芯片集成工作,以 便在設(shè)計(jì)周期的早期捕獲并糾正任何布線(xiàn)違規(guī), 從而幫助縮短至關(guān)重要的上市時(shí)間。錯(cuò)誤在早期 階段更容易修復(fù),而且對(duì)版圖沒(méi)有重大影響,設(shè) 計(jì)人員在此階段消除錯(cuò)誤,可以減少實(shí)現(xiàn)流片所 需的設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 (DRC) 迭代次數(shù)(圖 1)。但是,早期階段芯片級(jí)物理驗(yàn)證面臨許多挑 戰(zhàn)
          • 關(guān)鍵字: 芯片  soc  設(shè)計(jì)人員  

          利用更高效的 LVS 調(diào)試提高生產(chǎn)率

          • 簡(jiǎn)介版圖與電路圖比較 (LVS) 驗(yàn)證是片上系統(tǒng) (SOC) 設(shè)計(jì)周期中集成電路 (IC) 驗(yàn)證必不可少的組 成部分,但鑒于當(dāng)今高密度且層次化的版圖、不斷提高的電路復(fù)雜性以及錯(cuò)綜復(fù)雜的晶圓 代工廠規(guī)則,運(yùn)行 LVS 可能是一項(xiàng)耗時(shí)且資源密集的工作。全芯片 LVS 運(yùn)行不僅會(huì)將設(shè)計(jì)版 圖與電路圖網(wǎng)表進(jìn)行比較,而且通常還包含會(huì)增加 LVS 運(yùn)行時(shí)間的其他驗(yàn)證,例如電氣規(guī)則 檢查 (ERC) 和短路隔離。根據(jù)設(shè)計(jì)的復(fù)雜性,調(diào)試這些設(shè)計(jì)的 LVS 結(jié)果可能同樣具挑戰(zhàn)性且耗時(shí),進(jìn)而影響總周轉(zhuǎn)時(shí) 間 (TAT) 和計(jì)
          • 關(guān)鍵字: LVS  SOC  IC設(shè)計(jì)  Mentor  

          出貨量破億!聯(lián)發(fā)科第一次登頂智能手機(jī)SoC

          • 市調(diào)機(jī)構(gòu)CounterPoint今天公布了2020年第三季度全球智能手機(jī)SoC芯片市場(chǎng)統(tǒng)計(jì)報(bào)告,聯(lián)發(fā)科意外超越高通而登頂,這也是“發(fā)哥”第一次拿到第一。2019年第三季度的時(shí)候,聯(lián)發(fā)科的份額為26%,落后高通5個(gè)百分點(diǎn),但是現(xiàn)在,聯(lián)發(fā)科來(lái)到了對(duì)手水平,拿下31%的市場(chǎng),高通則滑落至29%。CounterPoint分析認(rèn)為,在中國(guó)、印度千元機(jī)市場(chǎng)上的強(qiáng)勁表現(xiàn),是聯(lián)發(fā)科最大的資本,當(dāng)季搭載聯(lián)發(fā)科芯片的智能手機(jī)出貨量也突破了1億部。不過(guò),高通在5G領(lǐng)域仍然無(wú)敵,39% 5G手機(jī)都基于高通平臺(tái)。第三季度,17%的
          • 關(guān)鍵字: 聯(lián)發(fā)科  智能手機(jī)  SoC  

          谷歌自研5nm SoC被曝已流片:效仿蘋(píng)果 打造全生態(tài)體驗(yàn)

          • 此前蘋(píng)果發(fā)布了基于ARM機(jī)構(gòu)的自研芯片M1,其性能表現(xiàn)十分出色,并且對(duì)于蘋(píng)果打造全生態(tài)用戶(hù)體驗(yàn)的計(jì)劃又進(jìn)了一步。谷歌作為安卓生態(tài)的領(lǐng)導(dǎo)者,也有意效仿蘋(píng)果打通PC、平板、手機(jī)的終端壁壘,打造全生態(tài)體驗(yàn)?! ?lái)自Axios的最新報(bào)道稱(chēng),谷歌代號(hào)Whitechapel的SoC芯片已于近期流片成功。據(jù)了解,這顆芯片基于三星5nmLPE工藝,8核ARM架構(gòu),除了CPU、GPU等,還集成了谷歌的TPU神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)加速單元?!   ≈档靡惶岬氖?,一顆芯片從流片到商用大概需要1年左右時(shí)間,因此還需要消費(fèi)者耐心等待?! 〈送?,
          • 關(guān)鍵字: 谷歌  5nm  SoC  

          臺(tái)積電2nm工藝重大突破!2023年投入試產(chǎn)

          • 這幾年,天字一號(hào)代工廠臺(tái)積電在新工藝進(jìn)展上簡(jiǎn)直是開(kāi)掛一般的存在,7nm工藝全面普及,5nm工藝一路領(lǐng)先,3nm工藝近在眼前,2nm工藝也進(jìn)展神速。根據(jù)最新報(bào)道,臺(tái)積電已經(jīng)在2nm工藝上取得一項(xiàng)重大的內(nèi)部突破,雖未披露細(xì)節(jié),但是據(jù)此樂(lè)觀預(yù)計(jì),2nm工藝有望在2023年下半年進(jìn)行風(fēng)險(xiǎn)性試產(chǎn),2024年就能步入量產(chǎn)階段。臺(tái)積電還表示,2nm的突破將再次拉大與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的差距,同時(shí)延續(xù)摩爾定律,繼續(xù)挺進(jìn)1nm工藝的研發(fā)。臺(tái)積電預(yù)計(jì),蘋(píng)果、高通、NVIDIA、AMD等客戶(hù)都有望率先采納其2nm工藝。2nm工藝上,臺(tái)積
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  2nm  

          臺(tái)積電:2nm芯片研發(fā)重大突破,1nm也沒(méi)問(wèn)題

          • 一、臺(tái)積電:第一家官宣2nm工藝,研發(fā)進(jìn)度超前據(jù)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道,臺(tái)積電2nm工藝取得重大突破,研發(fā)進(jìn)度超前,業(yè)界看好其2023年下半年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)良率就可以達(dá)到90%。據(jù)臺(tái)媒透露,有別于3nm與5nm采用鰭式場(chǎng)效晶體管(FinFET)架構(gòu),臺(tái)積電2nm改采全新的多橋通道場(chǎng)效晶體管(MBCFET)架構(gòu),研發(fā)進(jìn)度超前。據(jù)悉,臺(tái)積電去年成立了2nm專(zhuān)案研發(fā)團(tuán)隊(duì),尋找可行路徑進(jìn)行開(kāi)發(fā)??剂砍杀尽⒃O(shè)備相容、技術(shù)成熟及效能表現(xiàn)等多項(xiàng)條件,2nm采以環(huán)繞閘極(GAA)制程為基礎(chǔ)的MBCFET架構(gòu),解決FinFET因制程微
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          臺(tái)積電2024年將量產(chǎn)突破性的2nm工藝晶體管

          • 9 月 25 日消息 據(jù) wccftech 報(bào)道,臺(tái)灣半導(dǎo)體制造公司(TSMC)在 2nm 半導(dǎo)體制造節(jié)點(diǎn)的研發(fā)方面取得了重要突破:臺(tái)積電有望在 2023 年中期進(jìn)入 2nm 工藝的試生產(chǎn)階段,并于一年后開(kāi)始批量生產(chǎn)。目前,臺(tái)積電的最新制造工藝是其第一代 5 納米工藝,該工藝將用于為 iPhone 12 等設(shè)備構(gòu)建處理器。臺(tái)積電的 2nm 工藝將采用差分晶體管設(shè)計(jì)。該設(shè)計(jì)被稱(chēng)為多橋溝道場(chǎng)效應(yīng)(MBCFET)晶體管,它是對(duì)先前 FinFET 設(shè)計(jì)的補(bǔ)充。臺(tái)積電第一次作出將 MBCFET 設(shè)計(jì)用于其晶體管而不
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  2nm  

          臺(tái)積電2nm工藝2023年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)良率或達(dá)90%

          • 據(jù)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道,臺(tái)積電2nm工藝取得重大突破,研發(fā)進(jìn)度超前,業(yè)界看好其2023年下半年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)良率就可以達(dá)到90%。供應(yīng)鏈透露,有別于3nm和5nm采用鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FinFET),臺(tái)積電的2nm工藝改用全新的多橋通道場(chǎng)效電晶體(MBCFET)架構(gòu)。據(jù)悉,臺(tái)積電去年成立了2nm專(zhuān)案研發(fā)團(tuán)隊(duì),尋找可行路徑進(jìn)行開(kāi)發(fā)??剂砍杀?、設(shè)備相容、技術(shù)成熟及效能表現(xiàn)等多項(xiàng)條件,2nm采以環(huán)繞閘極(GAA)制程為基礎(chǔ)的MBCFET架構(gòu),解決FinFET因制程微縮產(chǎn)生電流控制漏電的物理極限問(wèn)題。極紫外光(EUV)微顯
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          首款5nm 5G Soc!麒麟9000來(lái)襲:Mate 40 Pro首發(fā)

          •   蘋(píng)果iPad Air 4首發(fā)A14仿生芯片,成為業(yè)界一款搭載5nm處理器的平板設(shè)備。不出意外,iPhone 12系列也將使用蘋(píng)果A14仿生芯片,預(yù)計(jì)在10月份亮相?! ∨ciPhone 12同期亮相的預(yù)計(jì)還有華為Mate 40系列,它將首發(fā)麒麟9000芯片?! ?月17日消息,據(jù)外媒報(bào)道,華為Mate 40 Pro首發(fā)商用的麒麟9000芯片將是業(yè)界第一款5nm 5G Soc,與蘋(píng)果A14仿生芯片不同,麒麟9000直
          • 關(guān)鍵字: 5G  Soc  麒麟9000  

          國(guó)產(chǎn)視覺(jué)應(yīng)用新平臺(tái) 瓴盛科技AIoT SoC芯片破繭而出

          • 作為視頻監(jiān)控的應(yīng)用和生產(chǎn)大國(guó),中國(guó)的視頻監(jiān)控應(yīng)用誕生了多家重要的國(guó)際領(lǐng)先企業(yè),比如???、大華等,不過(guò)受制于美國(guó)的科技管控,兩家企業(yè)均曾被列入美國(guó)實(shí)體名單,這就讓國(guó)內(nèi)諸多AI和視覺(jué)應(yīng)用的系統(tǒng)方案級(jí)企業(yè)不得不考慮更多的硬件選擇,從而更好的將中國(guó)的視覺(jué)智能應(yīng)用產(chǎn)業(yè)做大做強(qiáng)。在這樣的前提下,瓴盛科技的JA310的發(fā)布就有了更多不尋常的戰(zhàn)略意義。 8月28日,“2020 AIoT高峰論壇暨瓴盛‘芯視覺(jué)’產(chǎn)品發(fā)布會(huì)”在成都市雙流區(qū)隆重召開(kāi),省市區(qū)相關(guān)領(lǐng)導(dǎo)、瓴盛科技股東方、行業(yè)客戶(hù)、生態(tài)合作伙伴和媒體記者等超過(guò)300位
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          臺(tái)積電正與一家主要客戶(hù)緊密合作 加快研發(fā)2nm工藝

          • 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,為蘋(píng)果、AMD等眾多公司代工芯片的臺(tái)積電,近幾年在芯片制程工藝方面走在行業(yè)前列,他們的5nm工藝已在今年一季度大規(guī)模量產(chǎn),為蘋(píng)果等客戶(hù)代工最新的處理器。在5nm工藝投產(chǎn)之后,臺(tái)積電下一步工藝研發(fā)的重點(diǎn)就將是更先進(jìn)的3nm、2nm工藝,其中3nm工藝在最近兩個(gè)季度的財(cái)報(bào)分析師電話(huà)會(huì)議上均有提及,臺(tái)積電CEO魏哲家透露正在按計(jì)劃推進(jìn),計(jì)劃2021年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),2022下半年大規(guī)模投產(chǎn)。此前鮮有提及的2nm工藝,也有了消息。外媒的報(bào)道顯示,在昨日的臺(tái)積電2020年度全球技術(shù)論壇上,他們透露正在同一
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  2nm  

          臺(tái)積電2nm工廠計(jì)劃建在新竹 已獲得建廠所需土地

          • 8月25日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,5nm工藝在一季度大規(guī)模投產(chǎn)之后,臺(tái)積電下一步的工藝研發(fā)重點(diǎn)就將是更先進(jìn)的3nm工藝和2nm工藝,為盡快量產(chǎn),相關(guān)的工廠也需要提前謀劃,同步跟進(jìn)。雖然3nm工藝還未投產(chǎn),2nm工藝也還在研發(fā)階段,但臺(tái)積電已經(jīng)在謀劃2nm工藝的芯片生產(chǎn)工廠。臺(tái)積電已開(kāi)始謀劃2nm工藝工廠的消息,源自臺(tái)積電負(fù)責(zé)營(yíng)運(yùn)組織的資深副總經(jīng)理秦永沛。外媒在報(bào)道中表示,秦永沛透露臺(tái)積電計(jì)劃在新竹建設(shè)2nm工藝的芯片生產(chǎn)工廠,建設(shè)工廠所需的土地目前已經(jīng)獲得。新竹是臺(tái)積電總部所在地,先進(jìn)工藝的工廠建在新竹也在
          • 關(guān)鍵字: 臺(tái)積電  2nm  

          Mentor 推出 Calibre nmLVS-Recon 技術(shù),顯著簡(jiǎn)化 IC 電路驗(yàn)證過(guò)程

          • 為了幫助集成電路 (IC) 設(shè)計(jì)人員更快地實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)收斂,Mentor, a Siemens business 近日將Calibre? Recon 技術(shù)擴(kuò)展至 Calibre nmLVS 電路驗(yàn)證平臺(tái)。Calibre Recon 技術(shù)于2019年推出,作為 Mentor Calibre nmDRC 套件的擴(kuò)展,旨在幫助客戶(hù)在早期驗(yàn)證設(shè)計(jì)迭代期間快速、自動(dòng)和準(zhǔn)確地分析 IC 設(shè)計(jì)中的錯(cuò)誤,從而極大地縮短設(shè)計(jì)周期和產(chǎn)品上市時(shí)間?!? ?Calibre nmLVS-Recon?技術(shù)可
          • 關(guān)鍵字: IC  SoC  IDM  

          高效節(jié)能!Silicon Mitus汽車(chē)用AVN電源管理IC亮相

          • 電源管理半導(dǎo)體IC設(shè)計(jì)公司Silicon Mitus 近日推出用于汽車(chē)車(chē)載主機(jī)(AVN)的SoC電源管理IC “SM6700Q”。通過(guò)汽車(chē)AVN電源管理IC能夠從汽車(chē)電池流入的電源有效切換、分配及控制于車(chē)輛SoC平臺(tái)上。另外,新產(chǎn)品SM6700Q高度符合汽車(chē)AVN的SoC上所需要的電源、CPU、存儲(chǔ)、I/O和I/F等各種電源需求。SM6700Q的特征為:支持3.5~5.5V輸入范圍;搭載6個(gè)降壓穩(wěn)壓器 (Buck Regulator) 和6個(gè)LDO Regulator;具有4CH的10-bit模擬數(shù)字變換
          • 關(guān)鍵字: PMIC  AVN  IC  SoC  QFN  
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