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二代提速硬件仿真 關(guān)注功耗/速度優(yōu)勢IP公司
- Cadence CDNLive上海站,廠商聊的最多的,大家最想了解的,自然是剛剛在北京首發(fā)的Palladium XP II驗證平臺和系統(tǒng)開發(fā)增強套件。作為Palladium XP仿真系統(tǒng)的更新產(chǎn)品,二代產(chǎn)品最多可以將驗證性能再提高50%,更將其業(yè)界領(lǐng)先的容量擴展至23億門。而Cadence也是首次在美國以外推出新品發(fā)布,其中包含的種種深意,也是值得好好探究一番…… 硬件仿真平臺發(fā)展的深意 隨著芯片設(shè)計的復(fù)雜度越來越高,驗證工程師已經(jīng)不能高效地使用傳統(tǒng)RT
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TSMC和Cadence合作開發(fā)3D-IC參考流程以實現(xiàn)真正的3D堆疊
- ? 新參考流程增強了CoWoSTM (chip-on-wafer-on-substrate)芯片設(shè)計 ? 使用帶3D堆疊的邏輯搭載存儲器進行過流程驗證 全球電子設(shè)計創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS)今天宣布,臺積電與Cadence合作開發(fā)出了3D-IC參考流程,該流程帶有創(chuàng)新的真正3D堆疊。該流程通過基于Wide I/O接口的3D堆疊,在邏輯搭載存儲器設(shè)計上進行了驗證 ,可實現(xiàn)多塊模的整合。它將臺積電的3D堆疊技術(shù)和Cadence?3D-IC解決方案相結(jié)合,包
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Cadence發(fā)表新一代驗證運算平臺
- 為了讓半導(dǎo)體與系統(tǒng)制造廠商加快產(chǎn)品上市速度,益華電腦(Cadence Design Systems)發(fā)表Palladium XP II 驗證運算平臺,作為強化系統(tǒng)開發(fā)套裝不可或缺的一環(huán),大幅加速軟硬體驗證。 Palladium XP II 平臺建立在屢獲獎項肯定的 Palladium XP 仿真技術(shù)基礎(chǔ)之上,提升驗證效能達(dá)50%,并擴展容量達(dá)23億邏輯閘。由于更低的功耗與更高的閘道密度,現(xiàn)在客戶能夠以更小的面積承載更大的資料量。Cadence益華電腦也擴大支援8種全新行動與消費性通訊協(xié)定,加速模
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Mellanox選擇Cadence縮短互聯(lián)產(chǎn)品開發(fā)時間
- 全球電子設(shè)計創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計系統(tǒng)公司(NASDAQ:CDNS)日前宣布Mellanox Technologies 選擇Cadence? Palladium? XP Verification Computing Platform 用于其領(lǐng)先的服務(wù)器和存儲產(chǎn)品的開發(fā),該公司是高性能、端到端互聯(lián)解決方案領(lǐng)先供應(yīng)商,其產(chǎn)品用于數(shù)據(jù)中心服務(wù)器和存儲系統(tǒng)。
- 關(guān)鍵字: Cadence Mellanox Palladium
中芯國際采用Cadence數(shù)字流程新增高級功能
- 全球電子設(shè)計創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計系統(tǒng)公司(NASDAQ: CDNS) 與中芯國際集成電路制造有限公司(“中芯國際”,紐約證券交易所:SMI ,香港聯(lián)交所:981),中國內(nèi)地規(guī)模最大、技術(shù)最先進的集成電路晶圓代工企業(yè),日前共同宣布中芯國際已采用Cadence? 數(shù)字工具流程,應(yīng)用于其新款SMIC Reference Flow 5.1,一款為低功耗設(shè)計的完整的RTL-GDSII 數(shù)字流程。
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華力微電子基于Cadence數(shù)字工具開發(fā)55納米參考設(shè)計流程
- Cadence設(shè)計系統(tǒng)公司與上海華力微電子有限公司,今天共同宣布華力微電子基于Cadence Encounter數(shù)字技術(shù)交付出55納米平臺的參考設(shè)計流程。從現(xiàn)在起,華力微電子首次在其已建立的55 納米工藝平臺上實現(xiàn)了從 RTL到GDSII的完整流程,它也是Cadence與上海華力緊密合作的結(jié)果。 在該流程中所使用的Cadence數(shù)字工具包括RTL Compiler、Encounter Digital Implementation 系統(tǒng)、Conformal LEC、QRC Extraction、E
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