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KLA-TENCOR發(fā)布首個明場檢測系統(tǒng)
- 近日，KLA-Tencor發(fā)布了最新的突破性明場晶片檢測平臺2800系列，它能有效地檢測出所有工藝層上的最廣泛的關(guān)鍵性缺陷，幫助客戶應(yīng)對亞65納米及45納米技術(shù)節(jié)點上新產(chǎn)生的缺陷和成品率挑戰(zhàn)。2800系列提供了超寬帶（深紫外、紫外和可見光）波長檢查功能，其生產(chǎn)能力是上一代深紫外明場成像工具的兩倍，并有望確立明場晶片檢測領(lǐng)域的新標準，使芯片生產(chǎn)商能全面滿足快速開發(fā)和生產(chǎn)新一代 IC 器件的檢測要求。 新型2800系列在靈活的單平臺上采用第三代可見光、紫外光和深紫外光源，能提供可變的檢測波
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KLA-TENCOR推出最新設(shè)計檢測方案
- 助您加快產(chǎn)品上市時間、提高器件成品率 DesignScan 能在將掩膜版設(shè)計提交生產(chǎn)之前 發(fā)現(xiàn)任何聚焦和曝光條件下的全部缺陷類型 KLA-Tencor 近日正式發(fā)布了業(yè)界第一套用于 post-RET（分辨率增強技術(shù)）掩膜版設(shè)計版面 (reticle design layout)檢測的完整芯片光刻制程工藝窗口(lithography process window)（允許誤差空間）檢測系統(tǒng)。DesignScan 能使芯片
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KLA-TENCOR發(fā)布基于全光譜超寬帶檢測平臺的明場檢測系統(tǒng)
- 最新的 2800 系列提供了無可超越的檢測能力，使芯片生產(chǎn)商 能對亞 65 納米工藝實現(xiàn)精確控制 為幫助客戶應(yīng)對亞 65 納米及 45 納米技術(shù)節(jié)點上新產(chǎn)生的缺陷和成品率挑戰(zhàn)，KLA-Tencor (NASDAQ：KLAC) 近日發(fā)布了最新的突破性明場晶片檢測平臺 2800 系列，它能有效地檢測出所有工藝層上的最廣泛的關(guān)鍵性缺陷。2800 系列提供了業(yè)界唯一的超寬帶（深紫外、紫
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KLA-TENCOR在線配方服務(wù)幫助您快速解決配方問題
- 此項新服務(wù)通過公司的高安全性 iSupport 網(wǎng)絡(luò)提供 2005年6月21日訊—KLA-Tencor于今日起開始提供在線程式支持服務(wù)，客戶可通過此項新服務(wù)從 KLA-Tencor 分布在全球的眾多應(yīng)用專家獲得支持，從而提高其機臺程式的確定以及故障排除速度。該服務(wù)通過 KLA-Tencor 的高安全型網(wǎng)絡(luò) iSupport 提供，iSupport 服務(wù)網(wǎng)絡(luò)包括專家現(xiàn)場支持、24/7 在線支持和電子診斷支持服
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IC制造商面臨著日益增長的降低成本的壓力
- 在65nm和更小的節(jié)點工藝下，縮短IC開發(fā)周期和降低IC生產(chǎn)成本，對于將要采用下一代工藝，及時把他們的新產(chǎn)品推向市場的器件制造商已成為同樣要考慮的重要問題。因為一些因素，先進器件工藝的成本壓力正逐漸增加，它們包括：（1）半導(dǎo)體更多的工藝層的增加，要求進一步增加工藝監(jiān)控；（2）新的材料，諸如銅、低k和高k電介質(zhì)和基片設(shè)計，這些都會帶來新的缺陷類型，在它們發(fā)生在批量生產(chǎn)之前就需要廣泛的特征描述；（3）更為復(fù)雜的平版印刷技術(shù)可能進一步縮小已經(jīng)很狹窄的線寬，并且導(dǎo)致成形方面的缺陷。然而，盡管存在這么多的挑戰(zhàn)，
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KLA－TENCOR推出最新電子束晶圓檢查系統(tǒng)
- KLA-Tencor今天發(fā)布了其最新一代在線電子束（e-beam）晶圓檢查系統(tǒng)eS31，它能夠滿足芯片制造商對65nm和以下節(jié)點的工程分析和生產(chǎn)線監(jiān)控應(yīng)用方面的高靈敏度檢查需要。eS31采用了KLA-Tencor的經(jīng)過生產(chǎn)驗證的23xx光明場檢查平臺，以及若干能夠比前一代電子束檢查設(shè)備在擁有成本（CoO）方面提升六倍之多的若干硬件和軟件。利用eS31，芯片制造商可以發(fā)現(xiàn)電路缺陷，并在工藝開發(fā)階段及時解決這些問題，使他們的先進產(chǎn)品更迅速地進入市場，與此同時，在生產(chǎn)過程中
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