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張忠謀：臺積電南京廠明年下半量產(chǎn)
- 臺積電(2330)南京廠今日上午正式舉行進(jìn)機(jī)典禮，由董事長張忠謀親自主持，大陸中央及地方貴賓云集，顯示對臺積電南京投資案重視。 海思及聯(lián)發(fā)科將是首批客戶 張忠謀表示，大陸集成電路在中國制造，臺積電可助一臂之力。 南京廠預(yù)計2018年下半年量產(chǎn)，陸媒預(yù)估中國海思及聯(lián)發(fā)科(2454)將是首批客戶。 工程師已陸續(xù)由臺灣進(jìn)駐 今年上半年臺積電工程師已經(jīng)陸續(xù)由臺灣進(jìn)駐南京廠協(xié)助建廠事宜，8月16奈米大型機(jī)臺陸續(xù)透過華航包機(jī)，由臺灣運往南京祿口機(jī)場，而南京市政府為了迎接重量級貴賓，加快浦口
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臺積30周年：半導(dǎo)體八巨頭將同臺，庫克沒來
- 晶圓代工龍頭臺積電將在今年10月23日盛大舉辦「臺積公司30周年慶」論壇，以及于國家音樂廳舉辦音樂會。 臺積電30周年慶活動將由當(dāng)天下午舉行的半導(dǎo)體論壇揭開序幕，由董事長張忠謀親自主持，將邀請包括高通、博通、輝達(dá)(NVIDIA)、ADI、ASML、ARM、蘋果等重量級客戶及合作伙伴， 與張忠謀一起暢談半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)未來10年展望。 臺積電今年歡度30周年，活動當(dāng)天將盛大舉辦「臺積公司30周年慶」論壇，由董事長張忠謀親自主持，與談人包括了NVIDIA執(zhí)行長黃仁勛、高通執(zhí)行長Steve Mollenko
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KLA-Tencor宣布推出針對光學(xué)和EUV 空白光罩的全新FlashScanTM產(chǎn)品線
- 今天，KLA-Tencor公司宣布推出全新的FlashScanTM空白光罩*檢測產(chǎn)品線。自從1978年公司推出第一臺檢測系統(tǒng)以來，KLA-Tencor一直是圖案光罩檢測的主要供應(yīng)商，新的FlashScan產(chǎn)品線宣告公司進(jìn)入專用空白光罩的檢驗市場。光罩坯件制造商需要針對空白光罩的檢測系統(tǒng)，用于工藝開發(fā)和批量生產(chǎn)過程中的缺陷檢測，此外，光罩制造商(“光罩廠”)為了進(jìn)行光罩原料檢測，設(shè)備監(jiān)控和進(jìn)程控制也需要購買該檢測系統(tǒng)。 FlashScan系統(tǒng)可以檢查針對光學(xué)或極紫外(EUV)光刻的空白光罩?！?/li>
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首先采用EUV光刻工藝 三星半導(dǎo)體代工優(yōu)劣勢分析
- 張忠謀曾比喻說：“三星是一只700磅的大猩猩”，表示它十分強(qiáng)悍。然而在現(xiàn)階段的代工業(yè)中三星尚是“新進(jìn)者”，需要時間的積累。 01、引言 據(jù)IC Insight公布的今年Q2數(shù)據(jù)，三星半導(dǎo)體依158億美元，同比增長46.5%，超過英特爾而居首。 全球半導(dǎo)體三足鼎立，英特爾、臺積電、三星各霸一方，近期內(nèi)此種態(tài)勢恐怕難以有大的改變，但是一定會此消彼長，無論哪家在各自領(lǐng)域內(nèi)都面臨成長的煩惱。 然而在三家之中三星謀求改變的勢頭最猛，而臺積電
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EUV需求看俏 ASML頻傳捷報
- 全球最大芯片光刻設(shè)備市場供貨商阿斯麥 (ASML) 公布最新2017第二季財報。ASML表示，由于不論邏輯芯片和DRAM客戶都積極準(zhǔn)備將EUV導(dǎo)入芯片量產(chǎn)階段，EUV光刻機(jī)目前第二季已累積27臺訂單總計28億歐元。 ASML 第二季營收凈額 (net sales)21億歐元，毛利率(gross margin)為45%。在第二季新增8臺EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺，總值高達(dá)28億歐元。 ASML預(yù)估2017第三季營收凈額(net sales)約為22億歐元，毛
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EUV在手天下我有 ASML二季度表現(xiàn)亮眼
- 全球最大芯片光刻設(shè)備市場供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財報。ASML第二季營收凈額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV系統(tǒng)訂單，讓EUV光刻系統(tǒng)的未出貨訂單累積到27臺，總值高達(dá)28億歐元。 預(yù)估2017第三季營收凈額約為22億歐元，毛利率約為43%。因為市場需求和第二季的強(qiáng)勁財務(wù)表現(xiàn)，ASML預(yù)估2017全年營收成長可達(dá)25%。 ASML總裁暨執(zhí)行長溫彼得指出:“ASML今年的主要營收貢獻(xiàn)來自內(nèi)存芯片客戶，尤其在DRAM市場需求的驅(qū)動下，這部分的
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三星領(lǐng)先臺積電引入7納米EUV技術(shù)，今年代工市場欲超車聯(lián)電
- 據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)報道，7月11日，韓國三星電子在首爾舉行的說明會上，向客戶等各方介紹了半導(dǎo)體代工業(yè)務(wù)的技術(shù)戰(zhàn)略。新一代7納米半導(dǎo)體將采用最尖端的制造技術(shù)，從2018年開始量產(chǎn)。此次說明會上，三星展示了發(fā)展藍(lán)圖，記載了決定性能好壞的電路線寬的微細(xì)化進(jìn)程。三星表示，采用“極紫外光刻(EUV光刻)”新技術(shù)的7納米產(chǎn)品計劃從2018年開始接單，5納米產(chǎn)品和4納米產(chǎn)品分別將從2019年和2020年開始接單。EUV能大幅提高電路形成工序的效率，7納米以下的產(chǎn)品曾被認(rèn)為難以實現(xiàn)商用化，而EUV是
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延續(xù)摩爾定律 EUV技術(shù)角色關(guān)鍵
- 臺積電已宣布將在2018年第二代7奈米制程中開始導(dǎo)入EUV微影技術(shù)，以做為5奈米全面采用EUV的先期準(zhǔn)備。 盡管目前EUV設(shè)備曝光速度仍不如期待且價格極為高昂，但與采用雙重或多重曝光技術(shù)相比，EUV的投資對解決先進(jìn)制程不斷攀升的成本問題仍是相對有力的解決方案。 每一季的臺積電法說會上，張忠謀董事長或是共同執(zhí)行長對于極紫外光(Extreme Ultraviolet, EUV)的發(fā)展進(jìn)度必會對臺下觀眾做一專門的報告，法人代表對于EUV的導(dǎo)入時程亦表示高度興趣。 到底EUV的發(fā)展對于臺積電未來發(fā)展甚至
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KLA-Tencor 快速有效解決客戶良率問題 與中國半導(dǎo)體行業(yè)一同成長
- 看好中國半導(dǎo)體行業(yè)未來持續(xù)的蓬勃發(fā)展，工藝控制與成品率管理解決方案提供商KLA-Tencor (科天)透過半導(dǎo)體檢測與量測技術(shù)，以最快的速度及最有效的方式 ，幫助客戶解決在生產(chǎn)時面對的良率問題。KLA-Tencor立志于幫助中國客戶一起提升良率，降低生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率，并與中國半導(dǎo)體行業(yè)一同成長?！ LA-Tencor中國區(qū)總裁張智安表示，KLA-Tencor成立至今40年，現(xiàn)于全球17國擁有6000多位員工。2016財年，KLA-Tencor營收表現(xiàn)來到30億美元。從硅片檢
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半導(dǎo)體押寶EUV ASML突破瓶頸 預(yù)計2018年可用于量產(chǎn)
- 摩爾定律(Moore’s Law)自1970年代左右問世以來，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)均能朝此一定律規(guī)則前進(jìn)發(fā)展，過去數(shù)十年來包括光微影技術(shù)(Photolithography)等一系列制程技術(shù)持續(xù)的突破，才得以讓半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)能依照摩爾定律演進(jìn)，進(jìn)而帶動全球科技產(chǎn)業(yè)研發(fā)持續(xù)前進(jìn)。 但為延續(xù)產(chǎn)業(yè)良性發(fā)展，光是依賴于傳統(tǒng)微影技術(shù)仍不夠，因此芯片制造商也正在苦思試圖進(jìn)行一次重大且最具挑戰(zhàn)的變革，即發(fā)展所謂的“極紫外光”(EUV)微影技術(shù)，該技術(shù)也成為臺積電、英特爾(Intel)等
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半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中重要一環(huán) EUV光刻最新進(jìn)展如何
- ASML宣稱它的Q2收到4臺EUV訂單，預(yù)期明年EUV發(fā)貨達(dá)10臺以上。 EUV光刻設(shè)備一再延遲，而最新消息可能在2020年時能進(jìn)入量產(chǎn)，而非?？赡軕?yīng)用在5nm節(jié)點。 業(yè)界預(yù)測未來在1znm的存儲器生產(chǎn)中可能會有2層或者以上層會采用它，及在最先進(jìn)制程節(jié)點(7 or 5nm)的邏輯器件生產(chǎn)中可能會有6-9層會使用它。 ASML計劃2018年時它的EUV設(shè)備的產(chǎn)能再擴(kuò)大一倍達(dá)到年產(chǎn)24臺，每臺售價約1億美元，目前芯片制造商己經(jīng)安裝了8臺，正在作各種測試。 半導(dǎo)體顧問公司的分析師Ro
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