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          MRAM熱輔助寫入 為實(shí)現(xiàn)20nm以下工藝所必需

          —— 兼顧低開關(guān)電流和高穩(wěn)定性
          作者: 時(shí)間:2011-11-04 來源:SEMI 收藏

            法國研究機(jī)構(gòu)SPINTEC與開發(fā)技術(shù)的Crocus Technology共同開發(fā)出了將熱輔助切換(Thermally Assisted Switching:TAS)用于垂直磁化方式MTJ元件的STT-技術(shù)。并在2011年10月31日于美國亞利桑那(Arizona)州斯科茨戴爾(Scottsdale)開幕的磁技術(shù)國際會(huì)議“56th MMM”的首日進(jìn)行了發(fā)布。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/125480.htm

            TAS技術(shù)是一項(xiàng)邊用加熱器對(duì)MTJ元件存儲(chǔ)層進(jìn)行加熱,邊寫入數(shù)據(jù)的技術(shù)。對(duì)存儲(chǔ)層進(jìn)行加熱后,矯頑力會(huì)下降,從而可輕松寫入數(shù)據(jù)。介質(zhì)在存儲(chǔ)層中冷卻后,矯頑力會(huì)再次提高,數(shù)據(jù)穩(wěn)定性也會(huì)隨之提高。TAS技術(shù)基本上是一項(xiàng)與硬盤(HDD)熱輔助存儲(chǔ)相同的技術(shù)。

            需要TAS技術(shù)的原因是,兼顧低開關(guān)電流和高穩(wěn)定性是推進(jìn)定標(biāo)(Scaling)所必需的。此次SPINTEC等采用了Sy(Pt/Co)/CoFeB/MgO/CoFeB/(Pd/Co)構(gòu)成的垂直磁化方式MTJ元件,工作原理采用STT(自旋注入式磁化反轉(zhuǎn))方式。MTJ元件的工作溫度范圍為-30℃~+85℃,不過寫入時(shí)由于利用TAS技術(shù),因此會(huì)加熱至175℃。

            據(jù)介紹,此次通過采用TAS技術(shù),可以將熱穩(wěn)定性指標(biāo)Δ提高至73,同時(shí)將切換時(shí)的電流密度(JC)降至4.6×106。SPINTEC等自信地表示,“通過組合使用STT方式和TAS,對(duì)于以下工藝的MRAM,也可以實(shí)現(xiàn)業(yè)界最出色的Δ/JC”。不過,MR比目前只有10~20%。SPINTEC等表示,“今后將進(jìn)行改進(jìn),以把MR比提高至100%左右”。



          關(guān)鍵詞: MRAM 20nm

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