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          Mentor 擴(kuò)展解決方案以支持 TSMC 5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 工藝技術(shù)

          作者: 時(shí)間:2018-11-15 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

            , a Siemens business 今日宣布 Calibre? nmPlatform 和 Analog FastSPICE? (AFS?) Platform 獲得 TSMC 的 7nm Plus 和最新版本的 5nm 工藝的認(rèn)證。此外, 還繼續(xù)擴(kuò)展 Xpedition? Package Designer 和 Xpedition Substrate Integrator 產(chǎn)品的功能,以支持 TSMC 的高級(jí)封裝產(chǎn)品。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/201811/394418.htm

            TSMC 設(shè)計(jì)基礎(chǔ)架構(gòu)營(yíng)銷部高級(jí)總監(jiān) Suk Lee 說道:“TSMC 與 Mentor 展開密切合作,Mentor 為其 EDA 解決方案提供了更多功能,以便支持我們的全新 5nm 和 7nm Plus 工藝,從而繼續(xù)增加其對(duì) TSMC 生態(tài)系統(tǒng)的價(jià)值。多年以來,Mentor 一直都是我們的戰(zhàn)略合作伙伴,Siemens 將繼續(xù)在 Mentor 的電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化 (EDA) 技術(shù)領(lǐng)域進(jìn)行戰(zhàn)略投資,他們正幫助雙方的共同客戶取得更大成功,向市場(chǎng)推出新一代令人驚嘆的 IC 創(chuàng)新產(chǎn)品?!?/p>

            適用于 TSMC 5nm 和 7nm FinFET Plus 的 Mentor Calibre nmPlatform

            Mentor 針對(duì) TSMC 的 7nm FinFET Plus 工藝和最新版本的 5nm FinFET 工藝增強(qiáng)了 Calibre nmDRC? 和 Calibre nmLVS? 工具。Mentor 將繼續(xù)為 TSMC 客戶提供實(shí)現(xiàn)其制造要求所需的功能和性能。Calibre nmDRC 和 Calibre nmLVS 工具為云就緒產(chǎn)品,目前已被眾多客戶部署在 CPU 量數(shù)以千計(jì)的服務(wù)器解決方案中。

            Mentor 的 Caliber YieldEnhancer 工具已獲得認(rèn)證,可用于 TSMC 的 5nm 和 7nm FinFET Plus 工藝。Mentor 和 TSMC 開發(fā)了獨(dú)特的填充規(guī)則,通過嚴(yán)格控制填充形狀的位置來滿足制造要求。Calibre YieldEnhancer 工具的功能與 TSMC 的 Calibre Fill Design Kit 相結(jié)合,可最大限度提高虛擬金屬插入率”。

            Calibre PERC? 可靠性平臺(tái)不僅通過認(rèn)證可用于 TSMC 5nm 和 7nm FinFET Plus 工藝,還具有 TSMC 開發(fā)并新增強(qiáng)的 PERC 約束檢查功能,可幫助 TSMC 的客戶提高其設(shè)計(jì)的可靠性。

            Mentor 增強(qiáng)工具功能,以支持 TSMC 的 InFO_MS 堆疊技術(shù)

            Mentor 進(jìn)一步增強(qiáng)其工具集來支持 TSMC 的 InFO_MS(帶基底存儲(chǔ)器的集成扇出型)高級(jí)堆疊封裝產(chǎn)品。除能夠創(chuàng)建和管理復(fù)雜的元器件連接,并可作為對(duì)接 Xpedition Package Designer 用于版圖的關(guān)鍵自動(dòng)化工具之外,Mentor 的 Xpedition Substrate Integrator 還進(jìn)行了擴(kuò)展,可自動(dòng)實(shí)現(xiàn)源網(wǎng)表生成,以便運(yùn)行 Calibre 3DSTACK 進(jìn)行連接檢查。用于 LVS 的 Calibre 3DSTACK?、Calibre nmDRC、用于接口耦合電容提取的 Calibre xACT 以及用于點(diǎn)對(duì)點(diǎn) (P2P) 檢查的 Calibre PERC 工具也都包含在 TSMC 的 InFO_MS 參考流程中。這些增強(qiáng)功能為 TSMC InFO_MS 設(shè)計(jì)流程提供了全面的實(shí)施和驗(yàn)證解決方案。

            適用于 TSMC 5nm FinFET 和 7nm FinFET Plus 的 Mentor AFS 平臺(tái)

            AFS 平臺(tái)包括 AFS Mega 電路仿真器,已通過認(rèn)證并可用于 TSMC 的 7nm FinFET Plus 工藝和最新版本的 5nm FinFET 工藝。全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體公司的模擬、混合信號(hào)和射頻 (RF) 設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)均使用 AFS 平臺(tái)對(duì)采用最新 TSMC 技術(shù)的芯片進(jìn)行驗(yàn)證,并從中大獲裨益。

            Mentor IC 部門執(zhí)行副總裁 Joe Sawicki 表示:“Mentor 很榮幸能與 TSMC 合作繼續(xù)提供關(guān)鍵技術(shù),讓我們的客戶可以更快地將 IC 創(chuàng)新推向市場(chǎng)。“今年,TSMC 和 Mentor 聯(lián)手提供了眾多解決方案,為我們的共同客戶提供越來越多的設(shè)計(jì)途徑,讓他們能夠快速為移動(dòng)、高性能計(jì)算、汽車、人工智能和物聯(lián)網(wǎng)/可穿戴市場(chǎng)提供 IC 產(chǎn)品?!?/p>



          關(guān)鍵詞: Mentor FinFET

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