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          被視為夢(mèng)幻存儲(chǔ)的MRAM 為何吸引半導(dǎo)體大廠相繼投入?

          作者: 時(shí)間:2020-04-28 來(lái)源:鉅亨網(wǎng) 收藏

          目前存儲(chǔ)市場(chǎng)以DRAM與NAND Flash為主流,而近年來(lái),在人工智能、5G 等需求推升下,新興存儲(chǔ)MRAM(磁阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)) 逐漸成為市場(chǎng)焦點(diǎn),是什么原因吸引臺(tái)積電、英特爾與三星等半導(dǎo)體大廠,相繼投入研發(fā)?

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/202004/412515.htm

          隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)朝更小的技術(shù)節(jié)點(diǎn)邁進(jìn),DRAM(動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ))與NAND Flash(閃存) 開(kāi)始面臨微縮挑戰(zhàn),DRAM 已接近微縮極限,而NAND Flash 則朝3D轉(zhuǎn)型,除微縮越趨困難外,在高速運(yùn)算上也遭遇阻礙。

          而在人工智能、5G 時(shí)代來(lái)臨下,數(shù)據(jù)需求量暴增,隨著摩爾定律持續(xù)向下微縮,半導(dǎo)體業(yè)者加大對(duì)新興存儲(chǔ)的研發(fā)與投資力道,開(kāi)始尋求成本更佳、速度更快、效能更好的儲(chǔ)存解決方案。

          目前新興存儲(chǔ)主要包括鐵電隨機(jī)存取存儲(chǔ)(FRAM)、相變化隨機(jī)存取存儲(chǔ)(PRAM)、磁阻式隨存取存儲(chǔ)(MRAM) 及可變電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)( RRAM) 等,其中又以MRAM最被看好、最受業(yè)界期待。

          MRAM屬于非揮發(fā)性存儲(chǔ)技術(shù),是利用具高敏感度的磁電阻材料制造的存儲(chǔ),斷電時(shí),所儲(chǔ)存的數(shù)據(jù)不會(huì)消失,耗能較低;讀寫速度快,可媲美SRAM(靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)),比Flash 速度快上百倍、甚至千倍;在存儲(chǔ)容量上能與DRAM 抗衡,兼具處理與儲(chǔ)存資訊功能;且數(shù)據(jù)保存時(shí)間長(zhǎng),適合需要高性能的場(chǎng)域。

          除效能上的優(yōu)點(diǎn)外,相較于 DRAM、SRAM 與 NAND Flash 等存儲(chǔ)面臨微縮困境,MRAM 特性可滿足制程微縮需求。目前 DRAM 制程停滯在 1X納米,而 Flash 走到 20納米以下后,朝 3D 制程轉(zhuǎn)型,MRAM 制程可推進(jìn)至 10納米以下。至于 SRAM,則在成本與能量損耗上,遭遇嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。

          在具備Flash 的非揮發(fā)性技術(shù)、SRAM 的快速讀寫能力、DRAM 的高元件集積度等特性之下,MRAM 未來(lái)發(fā)展?jié)摿涫芷诖?,已被半?dǎo)體業(yè)界視為下世代的夢(mèng)幻存儲(chǔ)技術(shù),成為人工智能與機(jī)器學(xué)習(xí)應(yīng)用上,可替代SRAM 的新興存儲(chǔ)。

          也因此,除晶圓代工龍頭臺(tái)積電外,包括英特爾、三星、格芯等 IDM 廠與晶圓代工廠,相繼投入 MRAM 研發(fā),盼其能成為后摩爾定律時(shí)代的新興儲(chǔ)存解決方案。

          MRAM 與DRAM、NAND Flash 及SRAM 等存儲(chǔ)概念全然不同,MRAM 的基本結(jié)構(gòu)是磁性隧道結(jié),研發(fā)難度高,目前主要為兩大類別:傳統(tǒng)MRAM 及STT-MRAM,前者以磁場(chǎng)驅(qū)動(dòng),后者則采自旋極化電流驅(qū)動(dòng)。

          目前各家半導(dǎo)體大廠主要著眼 STT-MRAM,且越來(lái)越多嵌入式解決方案誕生,以取代 Flash、EEPROM 和 SRAM。三星采28納米FD-SOI(完全空乏型硅絕緣層金氧半晶體管) 制程制造;格芯同樣FD-SOI 技術(shù),但制程已推進(jìn)至22納米;英特爾也采用基于FinFET(鰭式場(chǎng)效晶體管) 技術(shù)的22納米制程。

          臺(tái)積電則是早在2002 年,就與工研院簽訂MRAM 合作發(fā)展計(jì)畫,目前正開(kāi)發(fā)22納米嵌入式STT-MRAM,采用超低漏電CMOS(互補(bǔ)式金屬氧化物半導(dǎo)體) 技術(shù),已完成技術(shù)驗(yàn)證、進(jìn)入量產(chǎn),并將持續(xù)推進(jìn)16納米STT-MRAM 開(kāi)發(fā),以支持下世代嵌入式存儲(chǔ)MCU、車用電子元件、物聯(lián)網(wǎng)及人工智能等多項(xiàng)新應(yīng)用。

          據(jù)研調(diào)機(jī)構(gòu) Yole Développement 指出,到 2024 年,STT-MRAM 市場(chǎng)規(guī)??赏_(dá)到 18 億美元,其中嵌入式方案產(chǎn)值約 12 億美元、獨(dú)立元件約 6 億美元。未來(lái)幾年,雖然 DRAM 與 NAND Flash 將持續(xù)站穩(wěn)存儲(chǔ)市場(chǎng)主導(dǎo)地位,但隨著各家半導(dǎo)體大廠相繼投入發(fā)展,成本也將逐步下降,進(jìn)一步提升 MRAM 的市場(chǎng)普及率。



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