5月17日消息，原本已經(jīng)落后的日本半導(dǎo)體制造行業(yè)近年來(lái)加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus，計(jì)劃2025年試產(chǎn)2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機(jī)。

日本當(dāng)前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過(guò)中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機(jī)，不論研發(fā)還是制造都要先買設(shè)備。

Rapidus社長(zhǎng)小池淳義日前在采訪中透露，他們已經(jīng)完成了1臺(tái)EUV光刻機(jī)的籌備，不過(guò)具體的型號(hào)及進(jìn)度沒有說(shuō)明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機(jī)，何時(shí)安裝、測(cè)試也沒公布。

Rapidus公司成立了僅僅9個(gè)月多，不到一年時(shí)間就籌備完成EUV光刻機(jī)，進(jìn)度確實(shí)很快。

小池淳義表示，通常大規(guī)模量產(chǎn)先進(jìn)工藝需要至少1000名工程師，但他們引入了AI和自動(dòng)化技術(shù)，現(xiàn)在有500名工程師了，用一半的資源就能完成。

根據(jù)該公司的計(jì)劃，他們2025年試產(chǎn)2nm工藝，2027年量產(chǎn)，2030年代預(yù)計(jì)營(yíng)收將達(dá)到1萬(wàn)億日元。