陶氏化學公司旗下的陶氏電子材料事業(yè)群日前推出了IKONIC??4000系列的化學機械研磨(CMP)研磨墊產品。該系列研磨墊初期將主要面向鈰基應用。

　　“業(yè)界對于IKONIC??技術?的總體反映可謂出奇的好，”陶氏電子材料事業(yè)群的CMPT?市場營銷總監(jiān)Colin?Cameron?介紹說?！癐KONIC?4000?系列為我們提供了最尖端的產品設計所普遍需要的很多至關重要的屬性。這些研磨墊具備高度的可調性，能夠進行定制以應對特定的要求。陶氏的大批量制造方法以及對于工藝控制的專注確保了我們客戶的工藝過程中的一致性和可靠性，進一步地提高了產品效能?！?/p>

　　新的?IKONIC?4000?系列產品解決了以往在尖端研磨要求和低缺陷率之間的取舍難題。其全新的化學原理在整個研磨墊使用壽命內均可提供穩(wěn)定的去除速率，使其特別適合用于與鈰基研磨相關的高難度領域。與業(yè)界標準IC1000研磨墊相比，IKONIC?4000系列產品在成品缺陷率方面改進了70%。

　　IKONIC?4000系列產品是陶氏與客戶協(xié)作開發(fā)的成果，目前可提供多種型號，涵蓋范圍很廣的硬度和孔洞率。籍此可以實現(xiàn)定制以便應對具體的客戶要求。這些研磨墊還進行了優(yōu)化，以便使研磨墊的修整更為簡便，并使研磨墊在整個使用壽命里均保持穩(wěn)定的紋理。

　　IKONIC?4000系列產品已經成功通過驗證，現(xiàn)在已可提供樣品。

　　IKONIC?CMP?研磨墊簡介

　　IKONIC?平臺?將一整套獨特的化學特性與靈活的設計密度結合在一起，為客戶提供了范圍很廣的定制解決方案。這些研磨墊旨在改進缺陷率表現(xiàn)，從而提高晶圓良率，并使研磨墊使用壽命更長，從而實現(xiàn)更高的設備使用效率。針對產出量和選擇性方面的要求，IKONIC?CMP?研磨墊可以實現(xiàn)廣泛的去除率目標要求，從而滿足工藝方面的需要。選擇?IKONIC?系列的產品亦有助于提高研磨效率和晶圓形貌。這些優(yōu)點使得IKONIC?研磨墊平臺成為各種高級研磨應用的完美選擇。