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          臺設備廠切入薄膜太陽能 非晶硅與CIGS為主流

          作者: 時間:2009-06-25 來源:DigiTimes 收藏

            臺系設備廠切入領域,目前主要以及銅銦鎵硒()領域為主,臺系設備業(yè)者指出,由于開發(fā)設備成功關鍵在于制程設備,其與半導體制程類似,為臺系業(yè)者欠缺之技術,開發(fā)難度遠較先期預期來的高,恐怕未來能在薄膜設備領域成功者僅少數(shù)。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/95648.htm

            臺系設備業(yè)者指出,目前切入設備者主流為兩大領域,多數(shù)大廠皆朝向開發(fā)Turnkey Solution,不過其中關鍵制程設備,就臺廠能力來說,還難以追上國際腳步。目前臺灣投入薄膜設備開發(fā)的包括均豪、盟立、志圣、廣運、富臨、帆宣、北儒等。

            設備業(yè)者指出,在薄膜設備中,核心的化學氣象沉積(PECVD)占整廠設備成本約6成,因此也被視為薄膜設備的成功關鍵,然而臺廠欠缺相關技術,現(xiàn)階段需購買國外設備來組裝,或與國外技轉(zhuǎn),至于能開發(fā)PECVD之業(yè)者,大多有簽訂代工協(xié)議,不能自營銷售。

            至于在部分,牽涉多種化學原料,加上有毒性,不論采用蒸鍍或濺鍍制程,都有其困難之處,尤其國際上的量產(chǎn)實績并不多,技術還算不上成熟,因此開發(fā)難度更甚于。

            臺系設備業(yè)者指出,非晶硅目前尚有轉(zhuǎn)換效率需克服,至于CIGS轉(zhuǎn)換效率較高,然而爭議多,未來何者會成為主流,其實都尚難看出來,不過預期非晶硅薄膜設備需求將會先復蘇,至于CIGS則還需一段時間。

            業(yè)內(nèi)高層認為,薄膜太陽能領域的投入方式,不是靠以往在產(chǎn)業(yè)的經(jīng)驗就能成功,臺廠若仍以外圍設備為利基點,恐怕很容易為大陸同業(yè)取代。尤其美加設備廠各有其長才,若能互相結(jié)合,共同開發(fā),將有助于加速發(fā)展腳步。



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