12月13日消息，光刻機(jī)大廠ASML宣布，已與韓國(guó)三星電子簽署備忘錄，將共同投資1萬(wàn)億韓元在韓國(guó)建立研究中心，并將利用下一代極紫外（EUV）光刻機(jī)研究先進(jìn)半導(dǎo)體制程技術(shù)。另外，ASML也宣布與SK海力士簽署ESG備忘錄，雙方在包括環(huán)境、社會(huì)和公司治理項(xiàng)目展開(kāi)合作。

值得一提的是，上個(gè)月初有消息顯示，三星電子將在未來(lái)五年內(nèi)從ASML采購(gòu)50套設(shè)備，平均每套單價(jià)約為2,000億韓元（約合人民幣10.92億元），總價(jià)值可達(dá)10萬(wàn)億韓元（約合人民幣546億元）。

三星電子于2022年6月底宣布量產(chǎn)了全球首個(gè)采用基于全環(huán)繞柵極（GAA）的3nm制程技術(shù)，使得該公司一直在努力確保能采購(gòu)更多EUV光刻機(jī)，目標(biāo)是使該公司能在2024年上半年進(jìn)入第二代3nm制程技術(shù)之后，2025年量產(chǎn)2nm制程技術(shù)，并在2027年量產(chǎn)1.4nm制程。

正因如此，三星集團(tuán)董事長(zhǎng)李在镕在2022年6月訪問(wèn)了ASML總部，與ASML執(zhí)行長(zhǎng)Peter Bennink討論了EUV的采購(gòu)問(wèn)題，并在同年11月與訪問(wèn)韓國(guó)的Peter Bennink進(jìn)行了進(jìn)一步會(huì)談。鑒于EUV光刻機(jī)從下訂到交貨的時(shí)間至少需要一年的情況下，當(dāng)時(shí)的會(huì)面討論預(yù)計(jì)將幫助盡快拿到設(shè)備。

此外，根據(jù)ASML的計(jì)劃，其將在2023年底前發(fā)布首臺(tái)商用High-NA（0.55 NA ）EUV光刻機(jī)，并在2025年量產(chǎn)出貨。這使得自2025年開(kāi)始，客戶(hù)就能從數(shù)值孔徑為0.33傳統(tǒng)EUV多重圖案化，切換到數(shù)值孔徑為0.55 High-NA EUV單一圖案化，降低制程成本，提高產(chǎn)量。

目前，預(yù)估High-NA EUV光刻機(jī)將會(huì)有五大客戶(hù)，包括英特爾、臺(tái)積電、三星、SK海力士、美光等。

編輯：芯智訊-林子