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          65nm將成為大陸芯片制造主流

          作者: 時間:2010-06-12 來源:SEMI 收藏

            一度沉寂的大陸行業(yè)最近忽然熱鬧起來,巧的是都與技術息息相關。

          本文引用地址:http://cafeforensic.com/article/109941.htm

            Intel早在2009年就宣布,正在建設中的大連工廠Fab 68將采用工藝技術。工藝是目前美國政府批準的在海外可采用的最高級別生產(chǎn)技術。這座12英寸晶圓廠預計今年建成投產(chǎn)。Intel大連芯片廠投資總額25億美元,是Intel在亞洲建立的首個300毫米工廠。

            另一條消息是,北京相關政府與部門將投資50-60億美元,支持中芯北京300mm新廠的建設與新技術的開發(fā),產(chǎn)能在短期內將從目前的20000片逐步擴充到45000片。中芯國際近期與IP 供應商 Virage Logic和Synopsys分別達成了IP合作協(xié)議,希望在65nm及以下工藝技術領域奪得更多的市場份額。

            作為業(yè)界標桿的TSMC也在9日宣布,與復旦大學和ICC聯(lián)手進行65nm研發(fā)。雖然TSMC受政策等因素制約,尚未在大陸進行大規(guī)模的和先進的芯片代工,但是通過走與高校合作、產(chǎn)學研結合的道路也不失為良策。

            華力微電子的成立是近期的亮點,它選擇的技術平臺來自IMEC。IMEC與華力微電子在上月就65nm CMOS芯片技術的合作協(xié)議正式簽約。華力的技術團隊將與IMEC的研發(fā)人員在比利時魯汶的IMEC總部的研發(fā)設備上共同調試IMEC 65nm基礎工藝,以滿足華力的工藝需求。

            那么,65nm將成為大陸的主流工藝嗎?

            65nm工藝的主要特點是:足夠成熟,足夠先進,良率高,產(chǎn)量大,設計平臺成熟可靠。從技術細節(jié)上來說,45nm用到的高k金屬柵、金屬雙大馬士革硬掩膜、低k材料等技術難度頗大,在65nm尚不需如此高端,為量產(chǎn)鋪平了道路。從大陸產(chǎn)業(yè)發(fā)展的角度來說,既要盈利,又要追趕先進,那么65nm的確是一個很好的切入點,有助于盡快縮小與國際的差距,也利于盡快上馬生產(chǎn)。

            大陸芯片產(chǎn)業(yè)的一個薄弱環(huán)節(jié)是設計。65nm的設計平臺已經(jīng)開發(fā)的非常成熟,在這個平臺上進行低成本、低功耗的設計也有利于彌補產(chǎn)業(yè)鏈的不足。


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