GeIL 推出支持 AMD EXPO 的 DDR5 內(nèi)存，內(nèi)置兩個小風扇
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IT之家 8 月 31 日消息，今年 5 月份，GeIL 發(fā)布了 EVO V DDR5 RGB 內(nèi)存條，采用了雙風扇散熱系統(tǒng)，將 RGB 燈效和雙風扇主動式的散熱設計結(jié)合到一體成型的模組中。
本文引用地址：http://cafeforensic.com/article/202208/437868.htm現(xiàn)在，GeIL EVO V DDR5 RGB 內(nèi)存條推出了支持 AMD EXPO 超頻技術(shù)的型號。
據(jù)介紹，該系列內(nèi)存采用了 GeIL 獨家主動雙風扇散熱系統(tǒng)，支持 6400MHz 一鍵超頻，采用了獨家優(yōu)化的 RGB 照明設計，兼容 AM5 平臺。
根據(jù) GeIL 之前的介紹，該系列內(nèi)存的兩個散熱風扇位于內(nèi)存模組的右上角和左上角，提供對外的氣流，雙風扇散熱可提供比傳統(tǒng)散熱增加約 45% 的散熱量。
目前，官方暫未公布新款內(nèi)存的售價。
IT之家了解到，AMD 現(xiàn)已正式發(fā)布了 EXPO 技術(shù)，官方稱在該技術(shù)加持下，1080p 游戲性能提升可達 11%，DDR5 內(nèi)存延遲可降低到 63ns，此外 AMD 還表示向其行業(yè)內(nèi)存合作伙伴提供 EXPO 技術(shù)，無需許可費。
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