荷蘭芯片設(shè)備制造巨擘ASML執(zhí)行長?？耍–hristophe Fouquet）表示，盡管中國大陸企業(yè)如中芯國際近年來在半導(dǎo)體領(lǐng)域有顯著進(jìn)展，但由于無法取得最先進(jìn)的極紫外光微影設(shè)備（EUV），芯片制程技術(shù)仍落后臺積電、三星等代工龍頭約10至15年。

Tom's Hardware報(bào)導(dǎo)，福克接受荷蘭《鹿特丹商報(bào)》（NRC）采訪時指出，中芯國際和華為僅使用深紫外光曝光設(shè)備（DUV），在成本效益上無法與臺積電的制程技術(shù)相提并論。

他認(rèn)為，美國政府祭出的禁止EUV出口中國大陸禁令確實(shí)有效，讓中國落后西方約15 年。盡管傳出中芯國際曾訂購一臺EUV設(shè)備，但ASML為遵守國際出口管制規(guī)范「瓦圣那協(xié)議」以及美國制裁，從未將EUV設(shè)備出口至中國。

然而，ASML仍持續(xù)向中國出貨先進(jìn)DUV設(shè)備，例如「Twinscan NXT:2000i」機(jī)型，可生產(chǎn)5納米、7 納米制程芯片。目前中芯國際使用第一代和第二代7納米制程為華為生產(chǎn)芯片，有助于中國高科技巨頭應(yīng)對美國制裁。

由于EUV設(shè)備無法進(jìn)入中國，華為及其合作伙伴正積極開發(fā)極紫外線曝光技術(shù)，以建立自家芯片制造設(shè)備與生態(tài)系統(tǒng)，預(yù)計(jì)耗時約10至15年。相較之下，ASML及合作伙伴花了超過20年的時間建立EUV生態(tài)系統(tǒng)。

在1990年代的許多技術(shù)都是公開已知，因此中國開發(fā)EUV技術(shù)的難度較低，但外界最大擔(dān)憂并非在15年后開發(fā)出EUV曝光設(shè)備，而是未來幾年內(nèi)復(fù)制ASML主流DUV設(shè)備，如Twinscan NXT:2000i。

目前，美國政府施壓 ASML，要求停止為販賣至中國的先進(jìn) DUV系統(tǒng)提供維修服務(wù)，以配合對中國半導(dǎo)體業(yè)的制裁，但荷蘭政府尚未同意。

中國大陸企業(yè)包括中芯國際、華虹半導(dǎo)體和長江存儲等，都是ASML的重要客戶，透過銷售DUV曝光設(shè)備，每年獲利數(shù)十億美元。若大陸設(shè)備廠成功開發(fā)自有 DUV系統(tǒng)，不僅可能減少對 ASML的采購量，甚至可能出口至中國以外的市場，與ASML展開競爭，進(jìn)一步加劇ASML在中國市場的壓力。