光刻機 文章 進入光刻機技術(shù)社區(qū)
佳能發(fā)布半導(dǎo)體光刻機新品 FPA-5550iX，可用于全畫幅 CMOS 制造等
- IT之家 3 月 13 日消息，佳能于今日發(fā)售了面向前道工序的半導(dǎo)體光刻機新產(chǎn)品 —— i 線步進式光刻機“FPA-5550iX”，該產(chǎn)品能夠同時實現(xiàn) 0.5μm（微米）高解像力與 50×50mm 大視場曝光。據(jù)介紹，新產(chǎn)品“FPA-5550iX”能夠同時實現(xiàn) 50×50mm 大視場及 0.5μm 高解像力曝光，在不斷趨向高精尖化的全畫幅 CMOS 傳感器制造領(lǐng)域中，使得單次曝光下的高解像力成像成為可能。同時，通過充分利用高解像力與大視場的優(yōu)勢，“FPA-5550iX”也可應(yīng)用于頭戴式
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ASML堵了EUV光刻機的路，但國產(chǎn)光刻機有3大新方向
- 眾所周知，當(dāng)前全球只有ASML一家能夠生產(chǎn)EUV光刻機，甚至可以說很長一段時間內(nèi)，全球也只有ASML能夠生產(chǎn)光刻機，不會有第二家。原因在于ASML把EUV光刻機的路堵住了，這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應(yīng)鏈，形成了捆綁關(guān)系，像蔡司等與ASML形成了利益共同體，EUV光刻機中，蔡司等廠商至關(guān)重要，掌握核心科技，缺少這些供應(yīng)鏈，其它廠商不可能制造出EUV光刻機。所以，目前眾多的其它光刻機企業(yè)，并不打算走EUV光刻機這條路，在另尋它路。同樣的，國產(chǎn)光刻機基本上也走不通EUV這條路，只能另尋他路，而
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預(yù)計出貨國內(nèi)超100臺光刻機，美國急不急？
- 日前，ASML又正式官宣，2023年營收預(yù)計增長25%，預(yù)計國內(nèi)市場營收將會穩(wěn)定在22億歐元。數(shù)據(jù)顯示，一臺DUV光刻機的售價大約在2000萬美元，22億歐元大約可以購買超100臺DUV光刻機，這意味著ASML預(yù)計今年向國內(nèi)出貨超100臺DUV光刻機。不管如此，ASML宣布到2025年，DUV光刻機產(chǎn)能將會達到600臺，EUV光刻機產(chǎn)能達到90臺，這意味著未來一段時間內(nèi)，DUV光刻機仍是主力出貨設(shè)備。對此，就有外媒表示美國急不急？首先，光刻機是生產(chǎn)制造芯片的必要設(shè)備，也是美掌握為數(shù)不多的卡脖子設(shè)備，一旦光
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佳能推出晶圓測量機新品 MS-001：比光刻機精度更高，可提高生產(chǎn)效率
- IT之家 2 月 21 日消息，在邏輯、存儲器、CMOS 傳感器等尖端半導(dǎo)體領(lǐng)域，制造工藝日趨復(fù)雜，半導(dǎo)體元器件制造廠商為了制造出高精度的半導(dǎo)體元器件，需要提高套刻的精度，因而曝光前要測量的對準(zhǔn)測量點也越來越多。如果在半導(dǎo)體光刻機中對數(shù)量眾多的測量點進行對準(zhǔn)測量的話，測量本身會非常耗時，進而就會降低半導(dǎo)體光刻機的生產(chǎn)效率。為此，半導(dǎo)體制造領(lǐng)域引進了晶圓測量機，將半導(dǎo)體光刻機的對準(zhǔn)測量功能分離出來，以此來確保生產(chǎn)的高精度和效率。2 月 21 日，佳能推出了半導(dǎo)體制造用晶圓測量機“MS-001”，該
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淺析中美芯片博弈——美國加碼對華為禁令，ASML DUV光刻機對華出口或有變
- 2019年，無論從那個角度來說，都是最好的一年。在那一年的智能手機消費市場中，手機品牌競爭激烈，紛紛拿出了不少產(chǎn)品力很強的產(chǎn)品，三星、華為、蘋果分別位列全球前三。這一年，是手機市場巔峰，也是華為最強盛的時期，這一年，華為全年智能手機出貨量高達2.4億臺，超越蘋果，緊逼三星；這一年，華為的營收高達8588億人民幣，其中智能手機為主的消費者業(yè)務(wù)貢獻了4673億人民幣，占到了一半以上的營收比例，是華為最大的營收來源，賺錢能力強。可也就是這一年，美國開始了對華貿(mào)易戰(zhàn)，開始了對于華為的全面打壓，首先，谷歌禁止了華為
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光刻機龍頭ASML公布2022全年財報佳績，預(yù)計2023年凈銷售額同比增長超25%
- 當(dāng)?shù)貢r間，2023年1月25日，荷蘭光刻機龍頭ASML發(fā)布了2022年第四季度和全年業(yè)績。2022年第四季度的凈銷售額為64億歐元，達到了預(yù)期目標(biāo)區(qū)間中位，毛利率為51.5%，高于預(yù)期。同時，毛利率還受到去年ASML柏林工廠火災(zāi)導(dǎo)致的額外升級和保險賠償影響。2022年全年ASML總凈銷售額為212億歐元，毛利率為50.5%，凈利潤為56億歐元。另外，2022年底，ASML未交付訂單創(chuàng)下歷史新高，達404億歐元，該年總共銷售317臺新光刻機，較前一年增長31臺，此外還出貨了28臺二手光刻機。展望未來，ASM
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EUV光刻機開始“落幕”了
- 說到光刻機大家難免會想到三個廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機就是制造芯片的核心裝備?，F(xiàn)如今光刻機領(lǐng)域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機，也正因為此動作，才奠定了ASML在光刻機領(lǐng)域的核心地位。后續(xù)ASML又推出了更加高端的EUV光刻機，而且還是獨家壟斷生產(chǎn)。這就進一步使得ASML成為行業(yè)的巨頭。隨著科技的不斷發(fā)展，市場就要越來越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長時間壟斷，導(dǎo)致其他同行沒有辦法發(fā)展。在他自身無法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
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消息稱光刻機巨頭 ASML 臺灣地區(qū)新工廠明年 7 月動工
- IT之家 12 月 7 日消息，據(jù)臺灣地區(qū)經(jīng)濟日報報道，光刻機巨頭 ASML 將擴大在臺灣地區(qū)的投資。ASML 臺灣地區(qū)新工廠預(yù)計將在明年 7 月動工，是該公司在當(dāng)?shù)氐淖畲笸顿Y，并計劃把歐洲供應(yīng)鏈帶到臺灣地區(qū)。臺媒指出，ASML 帶來的歐洲供應(yīng)鏈將會落地林口工一研發(fā)中心、桃園龜山兩處，未來不排除以相同模式陸續(xù)在新竹、臺中、臺南落地。此外，ASML 帶來的主要為設(shè)備維修及組裝。數(shù)據(jù)顯示，2022 年第三季度，ASML 實現(xiàn)了凈銷售額 58 億歐元（約 425.72 億元人民幣），毛利率為
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三星首次引進本土生產(chǎn)光刻膠，日本稱霸該市場
- 12 月 4 日消息，據(jù) ETNews 消息，三星電子首次引入東進世美肯半導(dǎo)體的光刻膠進入其量產(chǎn)線，這也是三星進行光刻膠本土量產(chǎn)的首次嘗試。不過考慮到三星與海外光刻膠供應(yīng)商的關(guān)系，目前具體產(chǎn)量尚不清楚，且三星是否會額外引進其他品種的光刻膠也并沒有得到回應(yīng)。報道稱，三星電子已將韓國公司開發(fā)的用于高科技工藝的極紫外光刻膠（PR）引入其大規(guī)模生產(chǎn)線。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韓國出口包括含氟聚酰亞胺、光刻膠以及高純度氟化氫在內(nèi)的三項重要半導(dǎo)體及 OLED 面板原材料，經(jīng)過三年的努力，韓國實現(xiàn)了光刻
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有多貴？ASML新EUV光刻機單臺硬件造價2500億：可買三臺頂級航母
- 都知道光刻機單臺成本非常的貴，但是你知道有多貴嗎？一臺數(shù)億美元的光刻機讓我們看到了一款硬件設(shè)備的價格極限，然而，ASML CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪時透露，他們正在全力研制劃時代的新光刻機high-NA EUV設(shè)備，而高NA EUV光刻機系統(tǒng)的單臺造價將在300億到350億歐元之間，約合人民幣2195到2561億元。這個價格什么概念，一搜頂級航母的價格差不多在100億美元左右，而這臺硬件設(shè)備可以買三艘頂級航母，而ASML目前在售的雙工件臺EUV光刻機不過數(shù)億美元，作為下一代產(chǎn)品身價
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ASML參展第五屆進博會 以開放與專注助力行業(yè)合作共贏
- （中國上海，2022年11月4日）—— 今年，半導(dǎo)體行業(yè)的領(lǐng)先供應(yīng)商ASML將以“光刻未來，攜手同行”為主題繼續(xù)亮相第五屆中國國際進口博覽會（以下簡稱“進博會”）技術(shù)裝備展區(qū)4.1展館A0-01展臺。屆時，ASML將首次通過“元宇宙”平臺，帶來沉浸式的光刻體驗，彰顯前沿科技，推動行業(yè)發(fā)展。 “今年是ASML第四次參展進博會，我們希望借助進博會的平臺不斷地展現(xiàn)開放共贏、合作發(fā)展的理念?！盇SML全球高級副總裁、中國區(qū)總裁沈波表示，“ASML一直秉持開放與專注，以‘開放式創(chuàng)新’和對光刻技術(shù)的專注，持
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芯片巨頭美光：成功繞過了EUV光刻技術(shù)
- 本周美光宣布，采用全球最先進1β(1-beta)制造工藝的DRAM內(nèi)存芯片已經(jīng)送樣給部分手機制造商、芯片平臺合作伙伴進行驗證，并做好了量產(chǎn)準(zhǔn)備?！ ?β工藝可將能效提高約15％，存儲密度提升35％以上，單顆裸片(Die)容量高達16Gb(2GB)?！ ∫粋€值得關(guān)注的點是，美光稱，1β繞過了EUV（極紫外光刻）工具，而依然采用的是DUV（深紫外光刻）。 這意味著相較于三星、SK海力士，美光需要更復(fù)雜的設(shè)計方案。畢竟，DRAM的先進性很大程度上取決于每平方毫米晶圓面積上集成更多更快半導(dǎo)體的能力，各公司目
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摩爾定律不死 臺積電已在謀劃1nm工藝：下代EUV光刻機是關(guān)鍵
- 在先進工藝上，臺積電今年底量產(chǎn)3nm工藝，2025年則是量產(chǎn)2nm工藝，這一代會開始使用GAA晶體管，放棄現(xiàn)在的FinFET晶體管技術(shù)。 再往后呢？2nm之后是1.4nm工藝，Intel、臺積電及三星這三大芯片廠商也在沖刺，其中三星首個宣布2027年量產(chǎn)1.4nm工藝，臺積電沒說時間點，預(yù)計也是在2027年左右?！ ?.4nm之后就是1nm工藝了，這個節(jié)點曾經(jīng)被認(rèn)為是摩爾定律的物理極限，是無法實現(xiàn)的，但是現(xiàn)在芯片廠商也已經(jīng)在攻關(guān)中?！ ∨_積電已經(jīng)啟動了先導(dǎo)計劃，傳聞中的1nm晶圓廠將落戶新竹科技園下
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光刻機介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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