光刻機(jī) 文章 進(jìn)入光刻機(jī)技術(shù)社區(qū)
國產(chǎn)光刻機(jī)工廠落地雄安？中國電子院澄清：這是北京高能同步輻射光源
- 近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱清華大學(xué)EUV項(xiàng)目把ASML的光刻機(jī)巨大化，實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)國產(chǎn)化，并表示這個(gè)項(xiàng)目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地。對此，中國電子工程設(shè)計(jì)院有限公司（下稱中國電子院）9月18日發(fā)聲，稱該項(xiàng)目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機(jī)工廠，而是北京高能同步輻射光源項(xiàng)目（HEPS）。北京高能同步輻射光源項(xiàng)目坐落于北京懷柔雁棲湖畔，是國家“十三五”重大科技基礎(chǔ)設(shè)施，它是我國第一臺高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項(xiàng)目早在2019年就開始建設(shè)、將于2025年底投入使用。北京高能同步
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光刻機(jī)之爭掀起第三波浪潮
- 當(dāng)下，光刻機(jī)在半導(dǎo)體行業(yè)的地位前所未有的重要，而且已經(jīng)突破了技術(shù)和產(chǎn)業(yè)范疇，引發(fā)了新一波光刻機(jī)之爭。從歷史發(fā)展情況來看，光刻機(jī)（這里主要指用于制造集成電路前道工序的光刻機(jī)）的發(fā)展和應(yīng)用經(jīng)歷了很多波折，總體來看，有兩個(gè)值得關(guān)注的時(shí)期，一個(gè)是 ASML 依靠浸沒式技術(shù)，異軍突起，并將原本的行業(yè)兩強(qiáng)甩在身后，這是技術(shù)之戰(zhàn)，另一個(gè)是 EUV 商用化之后，先進(jìn)制程（從 16nm 開始）爭奪戰(zhàn)打響，臺積電、三星電子和英特爾這三家為了爭奪產(chǎn)量有限的 EUV 而展開競爭，這是商業(yè)之爭。從目前的情況來看，第三波光刻機(jī)之爭正
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尼康推出新一代步進(jìn)式光刻機(jī)“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市
- IT之家 9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍縮小投影倍率的 i-line 步進(jìn)式光刻機(jī)“NSR-2205iL1”，預(yù)計(jì) 2024 年夏季上市。據(jù)稱，這種光刻機(jī)具有縮小投影放大系統(tǒng)，支持功率半導(dǎo)體、通信半導(dǎo)體和 MEMS 等多種產(chǎn)品，并且與尼康現(xiàn)有的 i-line 曝光設(shè)備高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步進(jìn)技術(shù)在過去二十五年中的最重大的更新，將可直接響應(yīng)客戶對這些在芯片制造中發(fā)揮重要作用的光刻系統(tǒng)的需求。尼康表示，與現(xiàn)有的尼康 i-line 曝光系統(tǒng)相比，NS
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日本與荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄：采購 ASML 光刻機(jī)，加強(qiáng)技術(shù)合作
- IT之家 6 月 26 日消息，據(jù)日本經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)道，日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟(jì)事務(wù)和氣候政策部在東京簽署了半導(dǎo)體合作備忘錄。二者將共同推進(jìn)欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML 的合作，并聯(lián)手進(jìn)行技術(shù)開發(fā)?！?圖源：ASML報(bào)道稱，ASML 量產(chǎn)尖端半導(dǎo)體工藝所需的 EUV 光刻機(jī)。Rapidus 計(jì)劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補(bǔ)貼，采購 EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到，EUV 光刻機(jī)在全球范圍內(nèi)較為短缺，面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報(bào)道指出，如果 Ra
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開始1-γ芯片制程開發(fā)？美光日本廠擬引入ASML光刻機(jī)
- 知情人士稱，美國美光科技公司準(zhǔn)備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進(jìn)芯片制造設(shè)備EUV（極紫外光刻機(jī)），以制造下一代存儲芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補(bǔ)貼。日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實(shí)了美光在日的進(jìn)一步投資。他指出，日本政府正與臺積電討論擴(kuò)大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進(jìn)存儲芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄會(huì)見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團(tuán)，而有關(guān)芯片的詳細(xì)計(jì)劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
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2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機(jī)
- 5月17日消息，原本已經(jīng)落后的日本半導(dǎo)體制造行業(yè)近年來加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus，計(jì)劃2025年試產(chǎn)2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機(jī)。日本當(dāng)前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機(jī)，不論研發(fā)還是制造都要先買設(shè)備。Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露，他們已經(jīng)完成了1臺EUV光刻機(jī)的籌備，不過具體的型號及進(jìn)度沒有說明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機(jī)，何時(shí)安裝、
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在光刻機(jī)新技術(shù)的研發(fā)上, 我們似乎又掉隊(duì)了
- 目前全球僅4家廠商，能夠制造光刻機(jī)，分別是荷蘭的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微電子。從技術(shù)水平來看，ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示，ASML的光刻機(jī)能夠達(dá)到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個(gè)數(shù)字，這是某機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì)的，2021年全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)的銷售情況，從這張表可以看出來，小米7nm的EUV光刻機(jī)，ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機(jī)上，僅有尼康、ASML能夠推出，尼康也就是打醬油，僅賣出4臺，另外的
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ASML預(yù)測，未來九個(gè)月對中國的銷量將大幅回升
- ASML 財(cái)務(wù)總監(jiān) Roger Daasen 表示，今年未來幾個(gè)季度中國大陸的銷量將顯著回升。
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ASML：2023年光刻機(jī)市場需求將超出產(chǎn)能
- 受消費(fèi)電子市場低迷影響，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁入下行周期，上游半導(dǎo)體設(shè)備也因客戶去庫存、調(diào)整訂單受到影響。不過，光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML發(fā)布的最新財(cái)報(bào)顯示，盡管光刻機(jī)業(yè)務(wù)遭遇一定挑戰(zhàn)，但未來產(chǎn)業(yè)前景仍舊向好。01EUV/DUV收入超預(yù)期增長，半導(dǎo)體需求結(jié)構(gòu)性分化4月19日，ASML發(fā)布2023年第一季度財(cái)報(bào)，該季ASML實(shí)現(xiàn)了凈銷售額67億歐元，毛利率為50.6%，凈利潤達(dá)20億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為38億歐元，其中16億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2023年第二季度的凈銷售額約為65億~70億歐
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ASML遭臺積電大規(guī)模砍單，強(qiáng)調(diào)7nm高端DUV光刻機(jī)仍可出口中國
- 據(jù)臺系設(shè)備廠商透露ASML近期由于客戶大砍資本支出、縮減訂單，最重要的是大客戶臺積電也大砍逾4成EUV設(shè)備訂單及延后拉貨時(shí)間，2024全年業(yè)績將明顯承壓。根據(jù)ASML的財(cái)報(bào)顯示，今年一季度的凈銷售額為67.46億歐元，較去年同期的35.34億歐元大幅增加，接近翻番，較上一季度的64.3億歐元也有增加；凈利潤為19.56億歐元，較去年同期的6.95億歐元大幅增加，較上一季度的18.17億歐元也有增加。雖然凈銷售及利潤同比環(huán)比均有增加，但ASML在財(cái)報(bào)中也披露了不利的消息，其一季度的凈訂單只有37.52億歐元
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光刻機(jī)龍頭ASML全球總裁來中國了！
- 3月28日，商務(wù)部部長王文濤會(huì)見荷蘭阿斯麥公司（ASML）全球總裁溫寧克。商務(wù)部官網(wǎng)消息，3月23日-28日，王文濤相繼會(huì)見了高通、蘋果、寶馬等超10家外企高管。王文濤強(qiáng)調(diào)，中國堅(jiān)定不移推進(jìn)高水平開放，愿為包括阿斯麥公司（ASML）在內(nèi)的跨國公司來華發(fā)展創(chuàng)造良好營商環(huán)境，并提供高效服務(wù)。希望阿斯麥堅(jiān)定對華貿(mào)易投資合作信心，為中荷經(jīng)貿(mào)合作作出積極貢獻(xiàn)，并共同維護(hù)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定。雙方還就阿斯麥在華發(fā)展等議題進(jìn)行了交流。證券時(shí)報(bào)·e公司記者留意到，上述會(huì)面距離3月8日荷蘭政府發(fā)布有關(guān)即將出臺的半導(dǎo)體
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(2023.3.20)半導(dǎo)體周要聞－莫大康
- 半導(dǎo)體周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非：華為三年完成了13000型號器件的替代開發(fā)近日，華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎(jiǎng)?lì)C獎(jiǎng)典禮，為在解題揭榜中做出突出貢獻(xiàn)的獲獎(jiǎng)人員代表頒獎(jiǎng)，華為總裁任正非發(fā)表了講話，部分參與座談的大學(xué)發(fā)布了座談紀(jì)要。任正非表示，在美國制裁華為這三年期間，華為完成 13000 + 型號器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復(fù)換板開發(fā)等，直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來，因?yàn)橛辛藝a(chǎn)的零部件供應(yīng)。任正非表示，華為現(xiàn)在還屬于困難時(shí)期，但在前進(jìn)的道路上并沒有停步。
- 關(guān)鍵字： 莫大康 半導(dǎo)體 華為 光刻機(jī) NAND
(2023.3.20)半導(dǎo)體周要聞-莫大康
- 半導(dǎo)體一周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非：華為三年完成了13000型號器件的替代開發(fā)近日，華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎(jiǎng)?lì)C獎(jiǎng)典禮，為在解題揭榜中做出突出貢獻(xiàn)的獲獎(jiǎng)人員代表頒獎(jiǎng)，華為總裁任正非發(fā)表了講話，部分參與座談的大學(xué)發(fā)布了座談紀(jì)要。任正非表示，在美國制裁華為這三年期間，華為完成 13000 + 型號器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復(fù)換板開發(fā)等，直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來，因?yàn)橛辛藝a(chǎn)的零部件供應(yīng)。任正非表示，華為現(xiàn)在還屬于困難時(shí)期，但在前進(jìn)的道路上并沒有停步
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納米壓印光刻，能讓國產(chǎn)繞過 ASML 嗎
- 自從國產(chǎn)替代概念興起，很少關(guān)注半導(dǎo)體行業(yè)的人都對光刻機(jī)有所耳聞。目前，全世界最先進(jìn)的芯片，幾乎都繞不開 ASML（阿斯麥）的 DUV（深紫外）和 EUV（極紫外）光刻機(jī)，但它又貴又難造，除了全力研發(fā)光刻機(jī)，國產(chǎn)有沒有其它的路可以走？事實(shí)上，光刻技術(shù)本身存在多種路線，離產(chǎn)業(yè)最近的，當(dāng)屬納米壓印光刻（Nano-Imprint Lithography，簡稱 NIL）。日本最寄望于納米壓印光刻技術(shù)，并試圖靠它再次逆襲，日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱，對比 EUV 光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和
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國產(chǎn)光刻機(jī)的「行軍難」
- 3 月 8 日，ASML 發(fā)表聲明回應(yīng)荷蘭政府即將出臺的半導(dǎo)體設(shè)備出口管制措施。ASML 稱，這些新的出口管制措施側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)，ASML 將需要申請出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤式 DUV 系統(tǒng)。ASML 強(qiáng)調(diào)，這些管制措施需要一定時(shí)間才能付諸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行記者會(huì)上，有媒體提問，據(jù)報(bào)道，荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會(huì)致函稱，出于國家安全考慮，荷蘭將于今年夏天之前對其芯片出口實(shí)施限制性措施。中方對此有何評論？外交部發(fā)言人毛
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光刻機(jī)介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺,
金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī),。
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網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn
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