光刻機 文章 進入光刻機技術(shù)社區(qū)
2028年自研7nm光刻機！俄羅斯真有這個能耐？
- 2028年實現(xiàn)光刻機自研，可支持7nm芯片制造！俄羅斯真有這個能耐？在芯片規(guī)則不斷的升級之下，各個國家不再相信基于美技術(shù)體系的國際產(chǎn)業(yè)鏈，而中、俄是產(chǎn)業(yè)被限制最嚴重的國家，因此在技術(shù)的自研上反應(yīng)也是最強烈的，在中企相繼傳出好消息之后，俄科學(xué)院也官宣了好消息。根據(jù)海外傳來的消息，俄科學(xué)院IPF RAS已經(jīng)全力參與光刻設(shè)備的研發(fā)，后續(xù)將會有整套的半導(dǎo)體設(shè)備誕生，并且其還高調(diào)宣稱：“自研的光刻機將在2028年商用，并且可用于7nm左右的芯片量產(chǎn)！”這就讓人納悶了，目前俄國依靠自主化的產(chǎn)業(yè)鏈，就連90nm工藝都無
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ASML：有望繼續(xù)向中國出貨非EUV光刻機
- 近期，全球半導(dǎo)體龍頭設(shè)備企業(yè)阿斯麥（ASML）、泛林（LAM）公布了其最新一季度財報，阿斯麥方面，最新一季度銷售額和利潤均超出市場預(yù)期，其新的凈預(yù)訂額也創(chuàng)下了紀錄。此外阿斯麥CEO Peter Wennink表示，ASML有望繼續(xù)向中國出貨非EUV光刻機；泛林方面，當(dāng)季公司營收創(chuàng)下歷史新高，官方表示，2023年晶圓廠設(shè)備支出將下滑。ASML：有望繼續(xù)向中國出貨非EUV光刻機10月19日，光刻機大廠阿斯麥公布了2022年第三季度財報。數(shù)據(jù)顯示，ASML第三季度凈營收同比增長10%至58億歐元，超出此前業(yè)界預(yù)
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精度遠超EVU！美企造出全球分辨率最高的光刻機
- 芯研所9月26日消息，近日美國開發(fā)和商業(yè)化原子精密制造技術(shù)公司Zyvex Labs宣布，其推出了全球分辨率最高的光刻系統(tǒng)——ZyvexLitho1TM。它沒有采用EUV光刻技術(shù)，而是基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是電子束光刻（EBL）方式。實現(xiàn)了0.768nm的原子級精密圖案和亞納米級分辨率芯片的制造，遠超EVU光刻機的精度。目前，5nm級及以下的尖端半導(dǎo)體制程必須采用EUV光刻機，而精度更高的2nm制程所使用的ASML新一代0.55 NA EUV光刻機，售價或?qū)⒏哌_4億美元。但想要實現(xiàn)1nm以下更先進
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被美國給打醒！俄羅斯想造光刻機，全新的技術(shù)，對標了ASML的EUV
- 被美國給打醒！俄羅斯想造光刻機，全新的技術(shù)，對標了ASML的EUV誰都知道，俄羅斯已經(jīng)被美國全面打壓了。俄羅斯的晶片需求量并不大，每年的進口量，也就是一億美元左右，大部分的晶圓廠，都不會和美國競爭。但俄羅斯的一億美金，在俄羅斯來說，就是一個天文數(shù)字。俄羅斯將會做什么？前段時間，有消息說俄羅斯準備重新做一臺光刻機。他的目標很明確，就是要用ASML的最新光刻機，去挑戰(zhàn)目前最尖端的EUV（UV）。當(dāng)然，ASML也不可能戰(zhàn)勝ASML，因為ASML的EUV光刻機，都是全世界的人幫忙做的，俄羅斯這邊，根本就沒有人去做
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瞄準 3D 結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體制造封裝需求，尼康力圖實現(xiàn)光刻機出貨量倍增
- 集微網(wǎng)消息，據(jù)日經(jīng)新聞報道，尼康公司日前提出半導(dǎo)體光刻設(shè)備新的業(yè)務(wù)發(fā)展目標，即到 2026 年 3 月為止的財年，將光刻機年出貨量較目前的三年平均水平提高一倍以上。報道稱，尼康將積極開拓除英特爾以外的其他客戶，特別是日本本土和中國地區(qū)客戶，計劃將英特爾在光刻機設(shè)備營收中所占比重從 80% 降低到 50%。尼康還將推出適應(yīng) 3D 堆疊結(jié)構(gòu)器件如存儲半導(dǎo)體、圖像傳感器制造需求的光刻機新產(chǎn)品，已提高其在成熟制程設(shè)備市場的競爭力，目前，該公司平均每年售出 16 臺 ArF 光刻機（含二手翻新）。
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俄羅斯7萬名IT專家出走！芯片儲備告警，俄羅斯自主研發(fā)光刻機
- 在俄羅斯開始對烏克蘭的特別軍事行動之后，西方國家開始對俄羅斯施加各種各樣的制裁。俄羅斯當(dāng)前面臨嚴峻的商業(yè)環(huán)境和政治環(huán)境，許多信息產(chǎn)業(yè)的科技人才紛紛出走，尋找更加安全且有保障的就業(yè)環(huán)境。根據(jù)美媒1日的報道，烏克蘭戰(zhàn)爭爆發(fā)以來已經(jīng)多7萬多名IT技術(shù)專家從俄羅斯離開，一些國家向俄羅斯的專業(yè)技術(shù)人才招手，充實自己的高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。俄羅斯大量信息技術(shù)人才流失的情況已經(jīng)得到俄羅斯電子通訊協(xié)會方面的承認，該協(xié)會上周向俄羅斯杜馬委員會遞交的報告之中指出，當(dāng)前俄羅斯已經(jīng)流失了5萬到7萬人的科技人才。盡管當(dāng)前俄羅斯的人才
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顯卡、內(nèi)存全在跌 ASML的EUV光刻機賣不動：一下少了15臺
- 全球半導(dǎo)體市場從產(chǎn)能緊張已經(jīng)轉(zhuǎn)向過剩，部分領(lǐng)域跌價跌得厲害，比如顯卡、內(nèi)存及SSD等，這一波芯片價格下滑也會影響廠商的生產(chǎn)計劃，結(jié)果就是ASML一度供不應(yīng)求的EUV光刻機賣不動了，今年出貨量減少15臺。ASML昨天發(fā)布了2022年Q2季度財報，當(dāng)季凈銷售額為54.31億歐元，好于市場預(yù)期的52.6億歐元，上年同期為40.20億歐元，同比增長35%。凈利潤為14.11億歐元，上年同期為10.38億歐元，同比增長36%。雖然業(yè)績大漲，但是ASML對全年的預(yù)期更加悲觀，從之前預(yù)期增長20%下調(diào)到了增長10%，其
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卡脖子也沒用 國內(nèi)廠商芯片新技術(shù)繞過EUV光刻機
- 毫無疑問，如今國內(nèi)芯片廠商面前最大的障礙就是EUV光刻機，不過EUV光刻機是研制先進芯片的一條路徑，但并非唯一解。 對于國內(nèi)廠商來說，當(dāng)前在3D NAND閃存的發(fā)展上，就因為不需要EUV機器，從而找到了技術(shù)追趕的機會。而在DRAM內(nèi)存芯片領(lǐng)域，盡管三星、美光、SK海力士找到的答案都是EUV，可來自浙江海寧的芯盟則開辟出繞過EUV光刻的新方案。芯盟科技CEO洪沨宣布基于HITOC技術(shù)的3D 4F2 DRAM架構(gòu)問世。他指出，基于HITOC技術(shù)所開發(fā)的全新架構(gòu)3D 4F2 DRA
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臺積電高管：將在2024年引入阿斯麥最新極紫外光刻機
- 6月17日消息，據(jù)外媒報道，臺積電高管周四表示，該公司將在2024年引入荷蘭廠商阿斯麥的最新一代光刻機。 臺積電研發(fā)高級副總裁米玉杰在硅谷舉行的技術(shù)研討會上表示，“展望未來，臺積電將在2024年引入高數(shù)值孔徑的極紫外光刻機，為的是開發(fā)客戶所需相關(guān)基礎(chǔ)設(shè)施和模式解決方案，進一步推動創(chuàng)新?！薄 ∶子窠懿⑽赐嘎缎乱淮饪虣C引入后何時用于大規(guī)模生產(chǎn)芯片。阿斯麥推出的第二代極紫外線光刻機能用于制造尺寸更小、處理速度更快的芯片。臺積電競爭對手英特爾公司此前表示，將在2025年之前開始使用新一代光刻機生產(chǎn)芯片，并
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佳能新發(fā)售KrF半導(dǎo)體光刻機“FPA-6300ES6a”Grade10升級包
- 佳能將于2022年8月初發(fā)售KrF ※1半導(dǎo)體光刻機“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產(chǎn)能升級配件包（以下簡稱“Grade10”升級包）。KrF半導(dǎo)體光刻機“FPA-6300ES6a” 自發(fā)售至今，已經(jīng)在生產(chǎn)存儲器和邏輯電路的大型半導(dǎo)體器件制造廠商中收獲良好口碑，此次發(fā)布的“Grade10”升級包將助力該設(shè)備在300mm晶圓規(guī)格基礎(chǔ)上，以每小時高達300片※2晶圓的加工能力實現(xiàn)半導(dǎo)體光刻行業(yè)內(nèi)的更高水平※3。
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ASML 分享 High-NA EUV 光刻機最新進展：目標 2024-2025 年進廠
- 5 月 29 日消息，半導(dǎo)體行業(yè)花了十多年的時間來準備極紫外線 (EUV) 光刻技術(shù)，而新的高數(shù)值孔徑 EUV 光刻（High-NA EUV）技術(shù)將會比這更快。目前，最先進的芯片是 4/5 納米級工藝，下半年三星和臺積電還能量產(chǎn) 3nm 技術(shù)，而對于使用 ASML EUV 光刻技術(shù)的 Twinscan NXE:3400C 及類似系統(tǒng)來說，它們大都具有 0.33 NA（數(shù)值孔徑）的光學(xué)器件，可提供 13 nm 分辨率。目前來看，這種分辨率尺寸對于 7 nm / 6 nm 節(jié)點 (36 nm ~ 38 nm)
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業(yè)績超預(yù)期：日本佳能光刻機銷售火爆
- 光刻機是半導(dǎo)體芯片制造中的核心設(shè)備，日本佳能公司也有光刻機，現(xiàn)在賣得也不錯，推動業(yè)績大漲。很多人都知道佳能主業(yè)是相機，不過這幾年全球數(shù)碼相機業(yè)務(wù)持續(xù)下滑，佳能也難免受到?jīng)_擊，最近幾年增長的反而是其他業(yè)務(wù)，該公司即將發(fā)布2022財年（2021年4月到今年3月），預(yù)計全年利潤可達2500億日元，約合19億美元或者126億人民幣，比1月份公布的指引高出50億日元，同比大漲20%。推動佳能業(yè)績大漲的業(yè)務(wù)主要是安全攝像頭以及光刻機，而且隨著半導(dǎo)體設(shè)備投資的增加，佳能的光刻機業(yè)務(wù)還會持續(xù)增長。從佳能官網(wǎng)上可以查到，該
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ASML公司開撕美國？光源技術(shù)不是根源，不交付EUV光刻機另有原因
- ASML公司雖然是荷蘭企業(yè)，但不少網(wǎng)友都把ASML公司“美”化了，這里的“美”指的是美國。在華為遭遇到芯片封鎖之前，中國半導(dǎo)體企業(yè)就曾向ASML公司支付了定金，采購了一臺EUV光刻機。然而，ASML公司卻遲遲沒有發(fā)貨，這也引起了網(wǎng)友的各種猜疑。眾所周知，全世界只有ASML公司能夠生產(chǎn)EUV光刻機，而一部EUV光刻機上就有超過10w的精密零件，各方面的技術(shù)也是來自全世界各國的頂尖技術(shù)。所以ASML公司的光刻機一直是供不應(yīng)求。但明明已經(jīng)收了定金，10億一部的EUV光刻機，ASML公司為何有生意不做呢？大部分的
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投資5000多萬 俄羅斯計劃研發(fā)全新EUV光刻機：ASML都沒有
- 光刻機是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一，EUV光刻機全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計劃開發(fā)全新的EUV光刻機，使用的是X射線技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片?！ 」饪虣C的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜，不過決定光刻機分辨率的主要因素就是三點，分別是常數(shù)K、光源波長及物鏡的數(shù)值孔徑，波長越短，分辨率就越高，現(xiàn)在的EUV光刻機使用的是極紫外光EUV，波長13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進工藝工藝?！ 《砹_斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現(xiàn)在就接下了貿(mào)工部的6.7億盧布資金(約合51
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光刻機介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn
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