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          ASML再次改口!國(guó)家迅速回應(yīng),外媒:荷蘭將光刻機(jī)事情鬧大了

          • 近年來(lái),光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展迅猛,成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要一環(huán)。ASML公司作為全球光刻機(jī)行業(yè)的龍頭企業(yè),其對(duì)華出口光刻機(jī)的態(tài)度一直備受關(guān)注。然而,最近ASML公司的態(tài)度再次發(fā)生變化,引發(fā)了國(guó)家的迅速回應(yīng)。荷蘭的決定被外媒認(rèn)為將光刻機(jī)事情鬧大了。本文將分別從ASML公司態(tài)度的變化、荷蘭及日本的對(duì)華出口管控、ASML公司的技術(shù)依賴(lài)和市場(chǎng)地位、我國(guó)光刻機(jī)技術(shù)的突破、ASML公司對(duì)華出口限制的影響以及中企自主掌握核心技術(shù)等方面進(jìn)行分析。ASML公司對(duì)華出口光刻機(jī)態(tài)度的變化ASML公司在對(duì)華出口光刻機(jī)的態(tài)度上一直搖擺不定。
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機(jī)  國(guó)產(chǎn)  

          Intel 4技術(shù)在愛(ài)爾蘭大批量生產(chǎn),點(diǎn)燃?xì)W洲半導(dǎo)體制造能力

          • DIGITAL-得益于ASML的芯片機(jī),英特爾在愛(ài)爾蘭的尖端技術(shù)生產(chǎn)點(diǎn)燃了歐洲革命。在英特爾位于愛(ài)爾蘭的最新制造工廠Fab 34的潔凈室里。?英特爾公司?英特爾在技術(shù)領(lǐng)域掀起了波瀾,在愛(ài)爾蘭推出了英特爾4技術(shù)的大批量生產(chǎn),引發(fā)了一場(chǎng)歐洲革命。這標(biāo)志著極紫外光刻機(jī)(EUV)首次用于歐洲大規(guī)模生產(chǎn)。此舉鞏固了英特爾對(duì)快節(jié)奏生產(chǎn)戰(zhàn)略的承諾,并提升了歐洲的半導(dǎo)體制造能力。?這家科技巨頭在愛(ài)爾蘭、德國(guó)和波蘭的投資正在推動(dòng)整個(gè)歐洲大陸的尖端價(jià)值鏈。英特爾對(duì)可持續(xù)發(fā)展的執(zhí)著也體現(xiàn)在其愛(ài)爾蘭氣候行動(dòng)計(jì)
          • 關(guān)鍵字: 英特爾,EUV,ASML  

          ASML今年將推出創(chuàng)紀(jì)錄的EUV光刻機(jī),價(jià)值3億美元

          • ASML 即將推出 NA 為 0.55,分辨率達(dá)到 8nm 的 EUV 設(shè)備。
          • 關(guān)鍵字: ASML  EUV  臺(tái)積電  

          三星電子出售 ASML 部分股份:獲得約 3 萬(wàn)億韓元,為半導(dǎo)體業(yè)務(wù)籌集資金

          • IT之家 8 月 16 日消息,三星電子在持有荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商 ASML 的股份七年后,決定出售其中一部分。這一舉動(dòng)被解讀為為投資籌集資金的努力,尤其是在今年該公司的營(yíng)業(yè)利潤(rùn)接近虧損的情況下。根據(jù)三星電子 8 月 15 日發(fā)布的半年度報(bào)告,該公司在 ASML 的持股從第一季度的 629.7787 萬(wàn)股減少到第二季度的 275.0072 萬(wàn)股,減少了 354.7715 萬(wàn)股。因此,三星電子在 ASML 的股份從 1.6% 降至 0.7%。持股的賬面價(jià)值(市值)從約 5.59 萬(wàn)億韓元降至 2.
          • 關(guān)鍵字: 三星  ASML  

          ASML發(fā)布Q2財(cái)報(bào):毛利率超50%,每股凈利潤(rùn)增長(zhǎng)近一倍

          • 主要是本季度 DUV 浸入式收入增加。7 月 19 日,光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)發(fā)布了 2023 年第二季度財(cái)報(bào)。期內(nèi),ASML 實(shí)現(xiàn)了凈銷(xiāo)售額 69 億歐元,毛利率為 51.3%,凈利潤(rùn)達(dá) 19 億歐元。今年第二季度的新增訂單金額為 45 億歐元,其中 16 億歐元為 EUV 光刻機(jī)訂單。「我們預(yù)計(jì)第三季度凈銷(xiāo)售額將在 65 億至 70 億歐元之間,毛利率約為 50%。ASML 預(yù)計(jì)研發(fā)成本約為 10 億歐元,SG&A 成本約為 2.85 億歐元。由于 DUV 收入強(qiáng)勁,盡管由于不確定性增加
          • 關(guān)鍵字: DUV  ASML  

          ASML發(fā)布2023年第二季度財(cái)報(bào) | 凈銷(xiāo)售額69億歐元,凈利潤(rùn)為19億歐元

          • 荷蘭菲爾德霍芬,2023年7月19日—阿斯麥(ASML)今日發(fā)布了2023年第二季度財(cái)報(bào)。2023年第二季度,ASML實(shí)現(xiàn)了凈銷(xiāo)售額69億歐元,毛利率為51.3%,凈利潤(rùn)達(dá)19億歐元。今年第二季度的新增訂單金額為45億歐元2,其中16億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2023年第三季度的凈銷(xiāo)售額在65億至70億歐元之間,毛利率在50%左右。相比2022年,今年ASML的凈銷(xiāo)售額增長(zhǎng)率有望達(dá)到30%。 (1)      累計(jì)裝機(jī)管理銷(xiāo)售額等于凈
          • 關(guān)鍵字: ASML  2023年第二季度財(cái)報(bào)  DUV  

          限制ASML對(duì)華設(shè)備和技術(shù)輸出的新規(guī)又來(lái)了

          • 荷蘭政府又要限制 ASML 賺錢(qián)了。
          • 關(guān)鍵字: ASML  

          ASML官網(wǎng)顯示:支持7nm高端DUV光刻機(jī)仍可出口

          • 荷蘭政府宣布了限制某些先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備出口的新規(guī)定,這些規(guī)定將于9月1日生效。具體而言,荷蘭政府將要求先進(jìn)芯片制造設(shè)備的公司在出口之前須獲得許可證。ASML在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱(chēng),該公司未來(lái)出口其先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV光刻系統(tǒng)(即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤(rùn)式系統(tǒng))時(shí),將需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證。而ASML強(qiáng)調(diào),該公司的EUV系統(tǒng)的銷(xiāo)售此前已經(jīng)受到限制。據(jù)ASML官網(wǎng)提供的信息,該公司目前在售的主流浸沒(méi)式DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款,分別是:TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN
          • 關(guān)鍵字: ASML  芯片制造  DUV  光刻  

          日本與荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄:采購(gòu) ASML 光刻機(jī),加強(qiáng)技術(shù)合作

          • IT之家 6 月 26 日消息,據(jù)日本經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)道,日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟(jì)事務(wù)和氣候政策部在東京簽署了半導(dǎo)體合作備忘錄。二者將共同推進(jìn)欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML 的合作,并聯(lián)手進(jìn)行技術(shù)開(kāi)發(fā)。▲ 圖源:ASML報(bào)道稱(chēng),ASML 量產(chǎn)尖端半導(dǎo)體工藝所需的 EUV 光刻機(jī)。Rapidus 計(jì)劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補(bǔ)貼,采購(gòu) EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到,EUV 光刻機(jī)在全球范圍內(nèi)較為短缺,面臨著臺(tái)積電、英特爾、三星等巨頭的爭(zhēng)搶。報(bào)道指出,如果 Ra
          • 關(guān)鍵字: ASML  光刻機(jī)  

          ASML:數(shù)值孔徑0.75超高NA EUV光刻設(shè)備2030年登場(chǎng)

          • 據(jù)日本媒體報(bào)導(dǎo),光刻機(jī)設(shè)備龍頭阿斯麥(ASML)執(zhí)行副總裁Christophe Fouquet近日在比利時(shí)imec年度盛會(huì)ITF World 2023表示,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)需要2030年開(kāi)發(fā)數(shù)值孔徑0.75的超高NA EUV光刻技術(shù),滿(mǎn)足半導(dǎo)體發(fā)展。Christophe Fouquet表示,自2010年以來(lái)EUV技術(shù)越來(lái)越成熟,半導(dǎo)體制程微縮至2020年前后三年,以超過(guò)50%幅度前進(jìn),不過(guò)速度可能會(huì)在2030年放緩。故ASML計(jì)劃年底前發(fā)表首臺(tái)商用High-NA(NA=0.55)EUV微影曝光設(shè)備(原型制作),
          • 關(guān)鍵字: ASML  NA  EUV  光刻設(shè)備  

          消息稱(chēng)光刻機(jī)巨頭 ASML 最快本月底迎出口管制措施,新規(guī)恐將成歐盟效仿對(duì)象

          • IT之家 6 月 23 日消息,據(jù)彭博社報(bào)道,荷蘭政府計(jì)劃最快下周發(fā)布新的出口管制措施,將限制 ASML 的半導(dǎo)體制造設(shè)備出口?!?圖源:ASML報(bào)道稱(chēng),此次出口管制名單新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等深紫外光(DUV)浸入式光刻設(shè)備。IT之家注意到,這一系列設(shè)備最高可支持 5 nm 工藝,如臺(tái)積電就使用 SAQP 和氬氟浸沒(méi) (ArFi) 光刻實(shí)現(xiàn)了 7 nm 量產(chǎn)。此前,ASML 最先進(jìn)的極紫外光(EUV)光刻機(jī)已在出口管制列表當(dāng)中
          • 關(guān)鍵字: ASML  出口管制  

          三星耗資約1.6萬(wàn)億建半導(dǎo)體聚落,吸引應(yīng)用材料/ASML等廠商赴韓投資

          • 據(jù)日經(jīng)新聞網(wǎng)報(bào)道,半導(dǎo)體巨頭三星電子計(jì)劃未來(lái)20年投資300兆韓元(約合人民幣1.6萬(wàn)億元),借由效仿臺(tái)積電模式,在韓國(guó)首爾附近打造新的半導(dǎo)體制造聚落。報(bào)道稱(chēng),三星這一舉措成功吸引了全球半導(dǎo)體廠商競(jìng)相在當(dāng)?shù)赝顿Y,包括美國(guó)應(yīng)用材料(Applied Materials)、荷蘭阿斯麥(ASML)等半導(dǎo)體大廠的主管正與首爾周邊京畿道政府辦公室,討論投資計(jì)劃、基礎(chǔ)建設(shè)發(fā)展及稅收優(yōu)惠政策。其中,應(yīng)用材料公司正在尋求建立一個(gè)新的研發(fā)中心,并計(jì)劃在今年年底前完成選址,并在幾年內(nèi)開(kāi)始運(yùn)營(yíng),而龍仁是其首選地點(diǎn);ASML目前則
          • 關(guān)鍵字: 三星  半導(dǎo)體聚落  應(yīng)用材料  ASML  

          開(kāi)始1-γ芯片制程開(kāi)發(fā)?美光日本廠擬引入ASML光刻機(jī)

          • 知情人士稱(chēng),美國(guó)美光科技公司準(zhǔn)備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進(jìn)芯片制造設(shè)備EUV(極紫外光刻機(jī)),以制造下一代存儲(chǔ)芯片(DRAM)。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元(15億美元)的補(bǔ)貼。日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實(shí)了美光在日的進(jìn)一步投資。他指出,日本政府正與臺(tái)積電討論擴(kuò)大在日投資的可能性,美光也有意在廣島開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)先進(jìn)存儲(chǔ)芯片。今日(周四),日本首相岸田文雄會(huì)見(jiàn)了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團(tuán),而有關(guān)芯片的詳細(xì)計(jì)劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
          • 關(guān)鍵字: 1-γ  芯片制程  美光  ASML  光刻機(jī)  

          柔弱的雕刻大師——EUV光刻機(jī)

          • 在如今這個(gè)信息時(shí)代,如果說(shuō)我們的世界是由芯片堆積起來(lái)的高樓大廈,那么芯片制造,則是這里面高樓的地基,而談到芯片制造各位讀者自然就能想到光刻機(jī),沒(méi)錯(cuò),作為人類(lèi)商業(yè)化機(jī)器的工程奇跡,光刻機(jī)自然是量產(chǎn)高性能芯片的必要設(shè)備。特別是隨著這幾年中美貿(mào)易戰(zhàn)的加劇,光刻機(jī)這種大部分可能一生都不會(huì)見(jiàn)到的機(jī)器一下子成了婦孺皆知的存在,那么光刻機(jī)是如何工作的呢?它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢?本篇文章就著重給大家介紹一下目前最先進(jìn),也是我國(guó)被“卡脖子”的EUV(極紫外)光刻機(jī)。? ? &
          • 關(guān)鍵字: ASML  EUV光刻機(jī)  芯片  EUV  

          在光刻機(jī)新技術(shù)的研發(fā)上, 我們似乎又掉隊(duì)了

          • 目前全球僅4家廠商,能夠制造光刻機(jī),分別是荷蘭的ASML,日本的尼康、佳能,和上海的微電子。從技術(shù)水平來(lái)看,ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示,ASML的光刻機(jī)能夠達(dá)到3nm的精度了,而尼康的主要在28nm及以上,而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個(gè)數(shù)字,這是某機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì)的,2021年全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)的銷(xiāo)售情況,從這張表可以看出來(lái),小米7nm的EUV光刻機(jī),ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機(jī)上,僅有尼康、ASML能夠推出,尼康也就是打醬油,僅賣(mài)出4臺(tái),另外的
          • 關(guān)鍵字: 光刻機(jī)  ASML  尼康  佳能  上海微電子  
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